制药废水处理方法|制药厂废水处理工艺

辅助过程排水:有工艺冷却水(如发酵罐、消毒设备冷却水)、动力设备冷却水、循环冷却水系统排水、去离子水制备过程排水、蒸馏设备冷凝水等。此类废水污染物浓度低,但水量大,且季节性强,企业间差异大。不过,一些水环真空设备排水可能含有溶剂,COD浓度会较高。冲洗水:包含容器设备冲洗水(如发酵罐冲洗水)、过滤设备冲...

...深度:至纯科技(603690):深耕高纯工艺系统,蓄力开拓湿法设备业务

公司重点布局了湿法设备,主要包括湿法槽式清洗设备及湿法单片式清洗设备,应用于扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积等关键工序段前后,整体延续DNS技术路径,在28nm节点达成全覆盖,并在14nm及以下制程的湿法设备研发中率先突破。此外,公司在单片高温SPM工艺方面率先打破海外垄断,并开发搭配使用的硫酸回收系统,晶背清洗、...

??双级反渗透设备标准工艺流程

生产流程:高端不锈钢保温水箱→源水加压水泵→全自动活性炭过滤器→全自动石英砂过滤器→(全自动软化水设备)→反渗透设备→一级ro反渗透→pH调整→高端纯储水箱→二级反渗透→无菌水箱→纯离心水泵→臭氧杀菌系统软件→紫外线杀菌器→微孔过滤器→自来水点。各部件作用1.原水箱的作用是分布式存储的源水,具有调整...

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

(3)典型的光刻工艺流程一般包括8个步骤,分别是底膜准备、涂胶、软烘、对准曝光、曝光后烘、显影、坚膜、显影检测;光刻过程中,量测设备、涂胶显影设备与光刻机配合运行。①底膜准备:对原始的硅片进行清洗、脱水,并向其涂抹增粘剂。②涂胶:对晶圆表面按照指定的厚度和均匀性涂抹光刻胶,同时将边缘和多余的光刻胶清...

华海清科交付首台12英寸设备

与化学机械抛光(CMP)类似,通常会在抛光垫和晶圆之间使用浆料(Slurry)和去离子水(DeionizedWater)。这种抛光工作可以减少晶圆和抛光垫之间的摩擦,从而使晶圆表面变得光滑。当晶圆较厚时,可以采用超精细研磨(SuperFineGrinding),但随着晶圆的变薄,需要进一步进行抛光。

8种蛋黄酱的配方及加工工艺

向蛋黄液中依次加食盐、白糖、葵花籽油(添加量的50%)、辛烯基琥珀酸淀粉钠、剩余葵花籽油(添加量的50%)、芥末、胡椒、去离子水、食醋(www.e993.com)2024年11月20日。每次加入原料或辅料后均搅拌均匀,搅拌速度为8600r/min,搅拌时间4min。07、蛋黄酱的实验配方和工艺一、蛋黄酱的工艺流程...

【展商推介】高纯工业确认出席CLNB 2024新能源产业博览会

1、反应生成碳酸锂晶体,热解设备易堵。2、反应过程中二氧化碳利用率低,运行成本高。3、间歇操作,自动化程度低,且批次的碳酸锂品质不均。针对生产运行中的问题,高纯研发专用的连续性操作的碳酸锂碳化热解系统。本工艺的碳化、热解均为连续操作。首先是将原料工业级碳酸锂与一定量去离子水或热解冷母液按一定比例配...

高盟新材2023年年度董事会经营评述

主要工艺同双组份高强度聚氨酯结构胶。产品上游为化工原材料厂家,包括生产异氰酸酯、聚醚及聚酯、增塑剂、化工添加剂、填料等厂家。产品下游为保温一体化板、净化板、三明治结构板材粘接、复合材料粘接等企业。a.将聚醚多元醇、热塑性树脂、增粘树脂、抗氧剂、光稳定剂加入到反应釜中,高温溶解后脱水;...

半导体制造技术变革—混合键合

混合键合工艺流程接下来让我们更详细地了解D2W和W2W的流程。图16图171.TSV形成正如我们上面提到的,需要TSV来向封装中的所有芯片传输电源和信号。想象一下传统的倒装芯片封装。该芯片仅需要一侧互连即可接收电力并与封装基板进行数据通信。该互连层具有连接到无源布线层(也称为“金属层”或“线路后端”...

广西新福兴硅科技产业园项 目(二期) 环境影响报告书

序号123456表2.1-10一期项目废水排放情况一览表项目名称去离子水制备系统排污水数值(m3/d)1328治理措施直接送去洗砂系统玻璃深加工车间生产废水2004条1000t/d太阳能产业用超白玻璃生产线循环水系统生产废水4002条900t/d特殊优质浮法玻璃电子工业用超薄玻璃生产线循环...