【求是芯星】宁波冠石半导体有限公司总经理Mark

掩模基板须包装保护好,直到净化间的黄光区才可以拆开后开始掩模的生产流程。Photomask厂商作为中间的桥梁,承担转印的角色。我们拿到的是客户设计蓝图,如何把蓝图完美转化在掩模上,这中间牵扯到很多的know-how,如EDA工具软件使用、数据处理、设备参数及原材料的匹配。掩模厂生产出来的产品,必须完美转印出设计公司的版图...

广东瞄准显示、半导体产业再发力!国内一流掩膜版生产基地今日开工

掩膜版（Photomask）是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，位于电子信息产业的上游，是电子元器件制造商（平板显示、半导体芯片、触控和电路板等行业）生产制造过程中的核心模具。电子元器件制造产品广泛应用于消费电子、家电、汽车等电子产品领域，因而掩膜版在产业链中起到桥梁和纽带的核心工艺作用。清溢光电实力如何...

西门子EDA三大支柱,加速中国半导体制造

在3DIC领域,西门子具备端到端完整的3DIC设计和验证流程,从微架构分区到规划设计、电气分析、测试以及可靠性评估,全面覆盖了设计过程的各个关键环节,助力客户充分释放3DIC技术的潜力,实现差异化竞争优势。总结综上,可以看出,在半导体领域,西门子EDA贯穿整个芯片设计制造流程,提供从软件定义系统的初步设计到3DIC制造的一...

2024-2030年中国半导体光掩模行业重点分析及投资机遇研究报告

3.11.1NewwayPhotomask基本信息、半导体光掩模生产基地、总部、竞争对手及市场地位3.11.2NewwayPhotomask半导体光掩模产品规格、参数及市场应用3.11.3NewwayPhotomask在中国市场半导体光掩模销量、收入、价格及毛利率(2019-2024)3.11.4NewwayPhotomask公司简介及主要业务3.11.5NewwayPhotomask企业...

数字化管理助力半导体芯片破局时刻

痛点五:多组织网络化协同制造,上下游之间协调难。受需求与政策驱动,半导体产业扩产迅猛,涉及多组织、多工厂、多车间、多工序与上下游的一体化计划难以协调,造成生产资源利用不均衡。痛点六:生产和委外过程黑匣子,按期交付管控难。生产和委外过程的黑匣子不透明,造成生产调度困难,各类异常造成计划无法按时完成,进而影响...

【光电集成】半导体领域的光学应用:CIS关键工艺技术概览

在此过程中产生的电子通过浮动扩散(FD)转换成电压,然后再通过模拟到数字转换器(ADC)转换为数字数据(www.e993.com)2024年11月14日。为了制造出使这一系列流程成为可能的CIS产品,需要采用CIS特有的、有别于半导体存储器的关键制造工艺技术。此类工艺技术可分为以下五大类:1.深层光电二极管成型工艺技术...

半导体:半导体产业链上游之半导体设备概述(量伙快速退火炉)

半导体生产分为前道工艺（FrontEnd）和后道工艺（BackEnd），其中前道是指晶圆制造厂的加工过程，在空白的硅片完成电路的加工，出厂产品依然是完整的圆形硅片。后道是指封装和测试的过程，在封测厂中将圆形的硅片切割成单独的芯片颗粒，完成外壳的封装，最后完成终端测试，出厂为芯片成品。根据用于的工艺流程不同，...

清溢光电:中国平板显示与半导体芯片掩膜版产业的先行者

是国家高新技术企业,以现有研发中心为依托,在已成立的深圳市光掩膜研发中心基础上成立“广东省光掩膜工程技术研究开发中心”,公司拥有从设计、工艺到产品整套流程的技术开发实力,是《薄膜晶体管(TFT)用掩模版规范》行业标准起草单位;是目前全球为数不多的同时具备平板显示掩膜版及半导体掩膜版的研发、设计及生产能力的...

光刻技术的过去、现在与未来

控制系统:控制系统是光刻机的大脑,负责管理整个光刻过程。它监控和调整光源的强度、曝光时间、光束的聚焦和掩模对准,确保图案的准确传输到光刻胶表面。掩模(Mask):掩模是一个透明介质,其表面带有所需的微细图案。通过曝光和投影,掩模上的图案被投射到光刻胶上,形成所需的模板,使光刻胶固化成所需的图案。

芯片设计流片、验证、成本的那些事

二、芯片的流片方式(FullMask、MPW)FullMask和MPW都是集成电路的一种流片(将设计结果交出去进行生产制造)方式。FullMask是“全掩膜”的意思,即制造流程中的全部掩膜都为某个设计服务;而MPW全称为MultiProjectWafer,直译为多项目晶圆,即多个项目共享某个晶圆,也即同一次制造流程可以承担多个IC设计的制造任务...