复旦大学电子束光刻系统机台采购项目公开招标公告

方式:通过复旦大学采购与招标管理中心网站(网址:httpsczzx.fudan.edu)点击“校外用户登录”,进入复旦大学采购与招标管理系统后,在“正在进行的项目”版块中查看项目进入在线获取招标文件流程并下载电子招标文件,电子招标文件售价零元,逾期不再办理。未按规定获取招标文件的潜在投标人将不得参加投标。招标文件获取...

聚焦先进光刻热潮,激发国际交流活力--第八届国际先进光刻技术研讨...

从实验方法的角度来看,HLS拥有极紫外计量学、干涉光刻、相干衍射成像、共振软X射线散射、X射线光电子能谱、光电离质谱等技术,以支持极紫外光刻领域的应用基础研究和技术开发。NSRL还计划通过将电子束电流增加到至少500毫安并将电子束发射度降低到小于10纳米弧度来升级HLS,以进一步提高极紫外光的亮度和相...

冠石半导体入场首台先进电子束掩模版光刻机

近日，宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，企业引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。宁波冠石半导体公司是一家专业从事半导体光掩模版制造的企业，企业主要从事45-28nm半导体光掩模版的规模化生产。光掩模版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形转移工具...

从沙子到芯片:芯片的原理和制造过程

不仅如此,作为芯片投影用的母版,掩膜版的制造和芯片光刻流程很相似都要经过光刻工艺,但比芯片的光刻工艺更难,也是要在板子上涂上光刻胶,然后用激光或电子束显影,最后再进行刻蚀,显出电路图形来。光刻工艺是芯片制造中最核心的工艺目前国内自主研制的光刻机只有90nm的制程,而荷兰ASML制造的最先进EUV光刻机波长已经...

泽攸科技自研电子束光刻机实现关键突破,有望打破国外技术壁垒

近日,据知情人士透露,国内微纳技术领军企业泽攸科技联合松山湖材料实验室,在全自主研发的电子束光刻机整机开发与产业化项目上取得重大进展。他们成功研制出电子束光刻系统,实现了电子束光刻机整机的自主可控。这标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。业内人士表示,电子束光刻机是当前推动新材料、前沿物理...

光刻技术的过去、现在与未来

制作过程:图案设计:掩模的制作始于对所需图案的设计(www.e993.com)2024年11月25日。通常使用计算机辅助设计软件(CAD)创建高精度的图案。这些图案需要考虑到光刻胶的特性以及图案在硅片上的投影效果。光刻或电子束曝光:利用光刻或电子束曝光技术将设计好的图案投射到掩模上。这个步骤需要高精度的设备和技术,确保掩模上的图案与设计的图案完全一致。

光刻技术,有了新选择_腾讯新闻

选择之三:电子束光刻(EBL&MEBL)技术说到电子束光刻技术,在这里要再提及一下光刻技术的原理。众所周知,光刻是整个微加工工艺中技术难度最大,也是最为关键的技术步骤。所谓光刻就是通过对光束进行控制,在一层薄薄的光刻胶表面“刻蚀”出我们需要的图案,光束照过的位置光刻胶的化学性质会发生变化,通过显影液...

天价EUV光刻,何去何从?

简单来说就是,原本需要两次EUV曝光才能完成的过程,现在借助应用材料公司的CenturaSculpta图案化系统,就只需要一次EUV曝光就能完成。与此同时,EUV双重图案化需要许多额外的制造工艺步骤,通常包括CVD图案化薄膜沉积,CMP清洁,光刻胶沉积和去除,EUV光刻,电子束计量,图案化薄膜蚀刻和晶圆清洁等。

双光束超分辨光刻技术的发展和未来

图1电子束光刻(a)、单光束光刻(b)、双光束光刻(c)技术的比较双光束超分辨光刻技术原理来源于受激辐射损耗显微成像技术(stimulatedemissiondepletion,STED),其基本原理如图2所示。首先,第2束激发光将艾里斑内的荧光分子从基态S0激发至第一激发态的较高振动态...

国产进入新一轮研发潮:电子束曝光机市场与企业盘点

Raith150-two是可以应用于晶片级电子曝光同时拥有极高分辨率的电子束光刻设备。并是纳米技术研究中心理想的电子束直写工具。并可设定为自动光刻流程并具有mix&match曝光功能。Raith150-two应用在半导体工业的新器件生产和新流程工艺中。作为专业的光刻系统,Raith150-two包括了所有例如高度感应和晶片高度测量等相应功能。强...