EUV光刻机争夺战,风云突变

从早期的深紫外(DUV)光刻机起步,其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础;到后来的极紫外(EUV)光刻机以其独特的极紫外光源和更短的波长,成功将光刻精度推向了新的高度;再到如今的高数值孔径(High-NA)光刻机正式登上历史舞台,进一步提升了光刻的精度和效率,为制造更小、更精密的芯片提供了可能。尤其...

Canalys:2024年Q3全球High-NA EUV光刻机市场竞争分析 英特尔独占...

从早期的深紫外(DUV)光刻机起步,其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础;到后来的极紫外(EUV)光刻机以其独特的极紫外光源和更短的波长,成功将光刻精度推向了新的高度;再到如今的高数值孔径(High-NA)光刻机正式登上历史舞台,进一步提升了光刻的精度和效率,为制造更小、更精密的芯片提供了可能。尤其...

EUV光刻机争夺战,风云突变-虎嗅网

从早期的深紫外(DUV)光刻机起步,其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础;到后来的极紫外(EUV)光刻机以其独特的极紫外光源和更短的波长,成功将光刻精度推向了新的高度;再到如今的高数值孔径(High-NA)光刻机正式登上历史舞台,进一步提升了光刻的精度和效率,为制造更小、更精密的芯片提供了可能。尤其...

光刻机龙头借壳预期激发涨停潮:挖掘概念股

经过近年来的艰苦努力,我国已经在光刻机技术上取得了显著进展,2024年,我国科技领域迎来了光刻机全流程国产化的重大历史突破。这一消息在全球范围内引起了巨大震动,打破了欧美国家在光刻机技术上的垄断,为我国高科技产业的发展注入了强大动力。应该说,我国光刻机领域当前最具代表性的企业就是上海微电子装备(集团)股...

全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注...

今年1月,尼康正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E,这种光刻机使用氟化氩激光器来生产芯片。尼康称,作为半导体生产过程中关键层的曝光系统,NSR-S636E具有尼康历史上更高的生产效率,并具有高水准的套刻精度和生产速度,可为尖端半导体器件中的3D等器件结构多样化的挑战提供解决方案。NSR-S636EArF浸没式曝光机采用增强型...

一出手就是5台!俄罗斯光刻机突破;外媒:西方制裁已“破裂”

光刻机是半导体制造过程中不可或缺的设备，它负责将芯片设计图案精确地转移到硅片上(www.e993.com)2024年11月27日。然而，光刻机的技术门槛极高，涉及到光学、精密机械、电子控制等多个领域。长期以来，这一领域一直被欧美国家所垄断。面对西方的制裁，俄罗斯科研人员迎难而上，开始了光刻机技术的自主研发。经过不懈努力，俄罗斯终于在光刻机技术...

【误导】因“光刻机”误导投资者,证监会对苏大维格处以百万罚款...

此前,苏大维格于2023年9月14日午间于互动易回复投资者提问时表示“公司光刻机以实现向国内龙头芯片企业的销售,并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口”,并提及“公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力,并在积极布局”。午间开盘后,公司股价大幅拉升并触及涨停。

中国院士谈论光刻机:中国曾有光刻机,但国外的好,就买国外的了

国产光刻机的进展情况我们第一台光刻机的起源可以追溯到七十多年前。1952年，华罗庚先生主导成立了中科院的电子计算机研究小组。这个团队汇集了当时国内数学和信息领域的众多科学家，此外还包括了胡伟武的导师夏培肃女士。这个科研小组正是后来中国第一台大型计算机——107计算机的发源地。1966年，中科院旗下的109工厂与...

创造历史!台积电股价起飞,“硅光子”是下一个大事件?

近几年因AI、自动驾驶等领域飞速发展，不少投资者增加了对半导体行业的投资。然而日前光刻机巨头阿斯麦却交出了一份令人失望的成绩单，导致不少投资者忧心忡忡，担心自己对于AI的前景预判错误，纷纷抛售阿斯麦的股票。在此背景下，台积电的卓越表现无疑为整个半导体行业注入了一剂强心针。台积电的成功更令人好奇，相较...

芯片股暴雷!光刻机巨头ASML提前公布三季度财报逊预期,股价创26年...

傅恪礼表示,“当前形势表明,半导体市场的复苏进程比此前的预期缓慢。该复苏进程预计将持续到2025年,因此客户在决策上变得更加谨慎。在逻辑芯片领域,由于晶圆代工厂之间的竞争态势,部分客户的新技术节点发展态势放缓,导致某些晶圆厂计划推迟并影响了对光刻设备的需求时间节点,尤其是对EUV光刻机的需求。在存储芯片领域,我们...