CO2激光管接线教程,你的安装方法对了吗?
同时采用先进的真空镀膜技术,进一步提高了激光管的功率和使用寿命,给高要求的激光机械制造商提供稳定的激光源。接线方法第一步|STEP1将激光管小心从外包装箱中取出,放置在机器支架上,注意两端支撑点标贴位置与支架底座对齐。激光管标签正面朝上,并用固定带将激光管与支架底座固定。将冷水机进、出水口软管...
中兴u975刷机教程与手机测评
中兴u795刷机教程第一步:你需要安装Recovery(在官网选择中兴u795这个机型)。第二步:你需要下载Recovery的刷机包,一般为一个ZIP压缩文件。第三步:准备一张2GB的SD卡,将刷机包ZIP文件拷贝到SD卡上(部分机型支持内置SD卡刷机,你可以复制到内置SD卡)。第四步:启动到Recovery(一般是在系统中选择进入recovery模式,...
涂层刀具技术的发展及应用
镀膜条件、工艺参数、镀前基体预处理等对于优质涂层的制取是非常重要的。刀具表面的状态对涂层的附着力至关重要,被镀工件表面必须没有其它膜层、烧斑、锈斑、油污或其它沾污。工件要经过严格的喷砂和去油清洗,在真空中生长硬质膜前还要进行离子轰击清洗。不同涂层材料的刀具,使用效果是不一样的。低速切削,TiC涂层占...
金属的各种表面处理,非常强大的工艺技术,值得收藏!
粉末喷涂:是用喷粉设备(静电喷塑机)把粉末涂料喷涂到工件的表面,在静电作用下,粉末会均匀的吸附于工件表面,形成粉状的涂层;粉状涂层经过高温烘烤流平固化,变成效果各异(粉末涂料的不同种类效果)的最终涂层。工艺流程:上件静电除尘喷涂低温流平烘烤技术特点:优点:1、颜色丰富,高光、哑光可选;2、成本较...
只要Geek有技术,一面镜子就能改变生活~
材料准备真空镀膜镜面玻璃这个玻璃难搞的地方在于不能导电/半透半反。如果找不到不导电的,也可以做成像谷歌工程师那种不带触摸功能的,交互性差一些罢了。透过率和反射率参数看各人喜好,我做的是70%+70%。透过率越高对屏幕亮度的要求越低,反射率越高照镜子的效果越好。
圆润小巧 明西镜面精致直板机C32评测
该机的机身材质为塑料,同时加入一种“真空溅镀NCVM”(NCVM全称“NonConductiveVacuumMetallization”,中文解释是不导电真空溅镀,其工艺原理是在制造过程中,对所欲镀上的金属(靶材)以离子加速轰击,使金属气相化并附着于素材上,形成金属镀膜)工艺,从而给人一种金属与液体结合的感觉,不过这样一来机身的反光力变强,...
从砂到芯:芯片的一生
工艺优化:制程节点每前进一步,都会伴随大量工艺优化,比如说,制程工艺从20nm/16nm/14nm开始,设计规则周期已小于光刻机分辨率极限,此时光刻机开始采用双重或多重曝光技术、光源掩模协同优化、负显影工艺等工艺;浸没式光刻技术虽然支持了45nm/40nm、32nm/28nm、20nm/16nm/14nm、10nm和7nm...
一文看懂:芯片的一生-虎嗅网
工艺优化:制程节点每前进一步,都会伴随大量工艺优化,比如说,制程工艺从20nm/16nm/14nm开始,设计规则周期已小于光刻机分辨率极限,此时光刻机开始采用双重或多重曝光技术、光源掩模协同优化、负显影工艺等工艺;浸没式光刻技术虽然支持了45nm/40nm、32nm/28nm、20nm/16nm/14nm、10nm和7nm五个主要技术节点[29],但...
从砂到芯:芯片的一生_腾讯新闻
工艺优化:制程节点每前进一步,都会伴随大量工艺优化,比如说,制程工艺从20nm/16nm/14nm开始,设计规则周期已小于光刻机分辨率极限,此时光刻机开始采用双重或多重曝光技术、光源掩模协同优化、负显影工艺等工艺;浸没式光刻技术虽然支持了45nm/40nm、32nm/28nm、20nm/16nm/14nm、10nm和7nm五个主要技术节点[29],但...
从砂到芯:芯片的一生_腾讯新闻
工艺优化:制程节点每前进一步,都会伴随大量工艺优化,比如说,制程工艺从20nm/16nm/14nm开始,设计规则周期已小于光刻机分辨率极限,此时光刻机开始采用双重或多重曝光技术、光源掩模协同优化、负显影工艺等工艺;浸没式光刻技术虽然支持了45nm/40nm、32nm/28nm、20nm/16nm/14nm、10nm和7nm五个主要技术节点[29],但...