【良率】蓝思科技抛光机及抛光方法专利公布,可提高良率;京东方...
多位一体抛光机包括机架、下盘组件、移载组件和第一抛光组件;下盘组件包括下抛光件和治具,下抛光件活动设置于机架;移载组件包括移载驱动件、移载臂和固定件,移载驱动件的驱动端连接移载臂,移载臂连接固定件。移载组件能够将产品上料至下抛光件处,由下抛光件抛光产品的底部,以及将产品上料至治具处,由治具接替固...
深圳西可实业取得高精度单面研磨抛光机专利,提高单面研磨抛光的精度
包括:研磨组件,包括研磨盘,研磨盘用于研磨工件;抛光组件,包括抛光盘,抛光盘用于抛光工件;摆臂机构,用于带动工件沿设定第一运动轨迹在研磨盘上往复运动与沿设定第二运动轨迹在抛光盘上往复运动,其中,第一运动轨迹为经过研磨盘圆心的水平弧线,第二运动轨迹为经过抛光盘圆心的水平弧线;固定组件,安装于摆臂机构,且用于固定...
福晶科技获得实用新型专利授权:“一种带出水口的柱面镜抛光盘”
抛光液由气管流入,经过连接头、抛光盘内部,从出水口喷洒在柱面镜的表面。本实用新型结构简单、组装方便、加工成本低,能有效的将抛光杂质排出并降低抛光过程中柱面镜表面温度,从而提升柱面镜的表面光洁度及面形指标。今年以来福晶科技新获得专利授权7个,较去年同期增加了133.33%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司...
晶盛机电申请一种抛光设备及检测方法专利,达到了实时检测抛光垫及...
专利摘要显示,本申请涉及半导体抛光技术领域,尤其是涉及一种抛光设备及检测方法,包括:抛光盘,所述抛光盘具有工作面;抛光垫,所述抛光垫粘接设置于所述工作面上;以及检测组件,所述检测组件位于所述抛光盘和所述抛光垫之间,并连接于所述抛光盘或所述抛光垫上,所述检测组件用于检测所述抛光垫和所述抛光盘之间的间距并...
晶盛机电申请抛光机及抛光状态监测方法专利,可延长抛光机的使用...
专利摘要显示,本发明提供了一种抛光机及抛光状态监测方法,属于晶片抛光技术领域,解决了现有技术抛光机停机次数多的问题。本发明的抛光机包括抛光盘,抛光盘上设有抛光垫,用于抛光晶片;抛光头,抛光头设置于抛光盘上方,抛光头包括:软基垫和本体,软基垫设置于抛光头底部,软基垫用于吸附晶片,本体设置于软基垫上方远离抛...
晶盛机电获得发明专利授权:“抛光机及抛光状态监测方法”
证券之星消息,根据企查查数据显示晶盛机电(300316)新获得一项发明专利授权,专利名为“抛光机及抛光状态监测方法”,专利申请号为CN202410727790.7,授权日为2024年8月6日(www.e993.com)2024年10月20日。专利摘要:本发明提供了一种抛光机及抛光状态监测方法,属于晶片抛光技术领域,解决了现有技术抛光机停机次数多的问题。本发明的抛光机包括抛光盘,抛光...
翡翠直接用1万目的抛不亮-翡翠抛光一天能拿吗?
其次,准备好适当的工具和材料。拍玉石需要使用一些专业的工具,如砂轮、抛光盘、砂纸等。此外,还需要一些研磨材料,如金刚砂粉和抛光膏。这些工具和材料能够帮助我们在拍玉石的过程中,更好地打磨和抛光玉石表面,提升其亮度和艳丽的颜色。然后,正确的操作技巧也是很重要的。对于拍玉石来说,打磨是一个关键的步骤。首先...
乘势而上的国产SiC抛光设备厂商
在半导体硅片的制造过程中,抛光是一个至关重要的步骤,它使用高速旋转的低弹性材料抛光盘,如人造革或棉布,或低速旋转的软质弹性或粘弹性材料抛光盘,并添加抛光剂以获得光滑的表面。对于碳化硅(SiC)晶片而言,抛光不仅是研磨后的必经阶段,而且对于去除由研磨引起的表面损伤和硬粒至关重要,这些损伤和硬粒可能会在切割过...
宇晶股份获得发明专利授权:“一种连续式多工位曲面抛光机”
专利摘要:一种连续式多工位曲面抛光机,包括机架、上盘单元、传动主体、电控操作箱及真空吸附装置;上盘单元包括上盘旋转装置和上盘升降装置,上盘旋转装置包括上盘减速电机、旋转接头、主轴、圆螺母、轴承盖、轴承座、轴承、轴套、升降活动板、挡水罩、端盖、万向装置、连接座、支撑螺杆、上抛光盘、上盘挡圈、毛刷卡件;传...
佩戴的银饰变黑,说明身体在排毒?真相是→
需要注意的是,如果银饰表面涂有银保护,抛光方法会将其尽数破坏,因此在抛光后可以补充些保护剂,以使其能够维持更久。3、碳酸饮料浸泡由于银饰表面的硫化银往往很少,因此可以让其溶解在酸性溶液(如可乐、汽水等)中。市售洗银水大多与此原理相近,都是通过将硫化银、氧化银溶解入水中来达到清洗表面的目的。