钙钛矿光伏电池研发中心及中试基地平台建设项目可行性研究报告
追求高转换效率是光伏电池发展的核心,钙钛矿电池具有更高的极限效率。当前晶硅电池效率已经逐步接近理论效率极限29.4%,而钙钛矿单结电池的肖克利-奎伊瑟(S-Q)理论效率极限为33.7%,全钙钛矿叠层电池理论效率可达44%+。在产业化推进过程中,钙钛矿也已经确实逐步实现了量产转化效率的提升。产业化主体具备资金技术优势...
【头条】中微公司就被列入中国军事企业清单正式起诉美国国防部
中微公司坚信,美国国防部将中微公司列入CMC清单的决定是错误的,不符合事实,没有法律依据,且违背了程序正当,给中微公司的声誉造成严重影响。中微公司表示,自被列入CMC清单以来,中微公司竭尽所能积极地同美国国防部进行沟通、澄清事实,提供了充分的证据证明其不符合CMC清单的认定标准,并要求其将中微公司从CMC清单中...
东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...
在光刻过程中,量测设备、涂胶显影设备与光刻机配合运行,涂胶显影设备在光刻过程中负责光刻胶的涂抹、烘烤,显影液的喷涂清洗等功能,涂胶显影设备的功能和设备质量直接影响到光刻工艺整体的良率。量测设备主要对光刻后的电路图形进行套刻误差以及关键尺寸的测量,如果出现误差过大的情况则需要重新进行光刻步骤,确保生产出来...
一万八干字详解半导体刻蚀工艺_腾讯新闻
多层结构中的每一层都需要经过光刻和刻蚀,确保不同层之间的精确对准和材料去除,以实现复杂的三维结构和功能。3.材料选择性:刻蚀工艺具有高选择性,能够根据需要精确去除特定材料而不影响其他材料。这对于制造多层结构和复杂器件至关重要。例如,在制造金属互连线时,需要刻蚀掉金属层中的多余部分而不损伤下层的绝缘...
明日复牌!国泰君安拟换股吸收合并海通证券并募集配套资金|盘后...
亚邦股份:公司产品下游需求不旺对公司三季度经营业绩造成一定影响亚邦股份发布股票交易异常波动公告,受国内外经济形势影响,公司产品下游需求不旺,市场竞争激烈,销售价格下降,导致营业收入持续下滑,对公司三季度经营业绩造成一定影响。具体经营数据以公司披露的第三季度报告为准,敬请广大投资者注意投资风险。
东海研究 | 深度:至纯科技(603690):深耕高纯工艺系统,蓄力开拓...
避免杂质影响芯片良率和芯片产品性能,具体包括:1)在半导体硅片制造过程中,需要清洗抛光后的硅片,保证其表面平整度和性能,从而提高在后续工艺中的良品率;2)在晶圆制造工艺中,需要在光刻、刻蚀、沉积等关键工序前后进行清洗,去除晶圆沾染的化学杂质,减小缺陷率;3)在封装测试阶段,需根据封装工艺进行TSV清洗、UBM/RDL...
电子行业深度报告:先进封装助力产业升级,材料端多品类受益
光敏聚酰亚胺(PSPI)是先进封装工艺中的核心耗材。在集成电路中,PSPI通常作为缓冲层、钝化层或用于多层互连结构的平坦化层,其主要功能是保护集成电路的特定区域不受外力影响。同时,伴随光刻技术的发展和芯片布线及封装技术的创新,现代封装技术要求单个半导体芯片能够连接至其他芯片的输入输出通路,这就需要在封装阶段进...
半导体刻蚀机行业专题报告:国产替代空间充裕
(1)逻辑芯片领域,随着先进制程不断发展,栅极宽度越小,加工过程中对刻蚀步骤的数量需求越高。更小的制程是集成电路研发生产的不懈追求。工艺越先进,晶体管栅极宽度纳米数越小,芯片的性能也将随之提升。当前国际上高端量产芯片从7nm向5nm、3nm甚至更小的尺寸发展,其核心工艺必须借助刻蚀机的多次刻蚀来实现。据...
光刻技术的过去、现在与未来
1.220世纪光刻技术的里程碑20世纪是光刻技术发展的关键时期,其经历了一系列重要的里程碑事件,从实验室研究到工业化应用,对半导体行业和微细结构制造产生了深远影响。1925年,最早的光刻机的出现标志着光刻技术的工业化开端。这些设备利用玻璃光版作为基板,在其表面形成微细结构。这一时期,虽然光刻技术尚未应用于半...
(审核过)4.25周4《食品科学》:华南农业大学罗林副教授等:二维纳米...
二维纳米材料的表面功能化、导电性等性能受物相、结晶度、剥落程度、稳定性和尺寸等特征影响,受制于材料的合成方式。另外,二维纳米材料的毒性也制约其在食品检测技术中的发展,如采用氢氟酸刻蚀的MXene材料有一定的毒性,且会造成环境污染,大多数二维纳米材料的生物安全性也尚未得到验证,提高二维纳米材料特性、消除或降低...