中国芯片攻坚7nm,努力实现媲美3nm性能的新突破

总的来说，虽然短期内突破5nm甚至3nm制造工艺在当前的全球技术环境下困难重重，但依托于7nm工艺，通过多种技术手段的结合，中国有望实现与3nm性能相当的芯片设计与制造。这不仅是应对当前国际形势的策略选择，更是中国芯片行业自主创新、勇敢向前的象征。因此，可以预见，未来利用7nm工艺达到3nm的性能，将成为中国芯片发展...

中国现在能做几nm芯片

中芯国际和华虹半导体是中国领先的芯片制造企业，目前能够稳定量产14纳米工艺的芯片。华虹半导体也在2022年实现了14纳米制程工艺的全线贯通，成为国内第二家能够制造14纳米芯片的厂商。28纳米工艺在中国已经相对成熟，多家企业能够稳定生产28纳米及以上的芯片。7纳米：有消息称，中国在7纳米工艺上已经开始小规模投产，但良...

别盯着2nm、3nm芯片,它只是“假”数字,中国芯方向不是这个

所以目前国内的芯片工艺,进不了5nm,更别说3nm、2nm了。事实确实是事实,但说真的,在当前形势之下,中国芯的方向,并不是去追求什么3nm、2nm,这种数字游戏,我们暂时还不需要去玩。芯片的性能提升,其实关键还是取决于单位体积内,晶体管的密度,密度越大,晶体管越多,那么性能就越强。目前的3nm、5nm、2nm等,其...

中国芯的好消息:EUV光刻机没有下一代,芯片工艺达到极限

中国芯的好消息:EUV光刻机没有下一代,芯片工艺达到极限近日,媒体报道称,台积电计划在1.6nm芯片工艺时,继续使用目前标准的EUV光刻机,也就是数值孔径=0.33NA的光刻机,而不是最新的HighNAEUV。台积电说是因为其太贵了,一台要3.5亿欧元,接近30亿人民币,不划算。另外,也因为ASML的这种HighNAEUV产量有限,...

华为张平安:别想5nm、3nm,目前7nm对中国芯片最重要

近日,IT之家报道,华为常务董事张平安在2024中国移动算力网络大会上讲了这样一句话,令人感慨万千。关于国产芯片,他这样说:“我们肯定是得不到3nm,肯定得不到5nm,我们能解决7nm就非常好。”同时张平安认为,中国芯片创新的方向,必须依托我们芯片能力的方向,不能在单点的芯片工艺上,而是应该在系统架构上发力,发挥我...

华为四重曝光工艺专利公开,国产5nm芯片有希望了?

另外,英特尔在推进其18A1.8nm工艺的过程中,由于新一代高NA光刻机尚未到位,公司不得不采用现有设备结合双重曝光技术来实现工艺目标(www.e993.com)2024年11月9日。对于国内芯片行业来说,由于近年来美国对先进半导体制造设备的出口管制,国内企业不得不放弃对高端半导体制造设备的依赖(特别是ASML的EUV设备),另辟蹊径,通过多重曝光技术来实现7nm、5...

苹果将成为台积电首个2nm制程工艺客户 2025年投产

CNMO新闻据台媒DigiTimes的消息,苹果将成为第一家获得基于台积电未来2纳米工艺制造芯片的公司。有消息人士向该媒体透露,苹果将会是采用台积电这项最新技术的首批客户。台积电消息称,台积电预计将从2025年下半年开始生产2nm芯片。相比于当前台积电的3nm制程,2nm制程可以带来更小的晶体管面积,因此处理器上可以容纳更多...

华为很清醒:别想3nm、5nm,目前7nm工艺对中国芯最重要

另外,他还说了更为关键的一段话,但这句话,很多人忽略了,只关注他说的3nm、5nm、7nm去了,他是这么说的:“中国创新的方向就必须要依托于我们芯片能力的方向,我们的创新方向不能在单点的芯片工艺上,我们的创新方向应该在系统架构上。”这一段话,点明了我们目前芯片工艺前进的方向,那就是要基于我们当前的真实...

反转来得太快!俄罗斯发布首台光刻机,ASML最不愿看到的局面出现

可能有不少人存在疑问,一台只能生产制造350nm工艺芯片的光刻机,有何可惧?事实上,俄罗斯走了和中国一样的道路,都加码了成熟工艺芯片。对于中俄来说,只要实现了成熟芯片的自给自足,就能避免被美芯“卡脖”。以350nm工艺芯片来说,它能够广泛应用于汽车、通信以及能源等行业,完全够用了!

...浙大3教师入选ISSCC技术委员会;英伟达AI芯片架构Rubin宣布...

9.俄罗斯首台光刻机制造完成,可生产350nm工艺芯片在当前国际地缘环境下,俄罗斯正在致力于推进半导体自主供应链的打造。据报道,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长VasilyShpak表示,该设备可确保生产350nm工艺的芯片。他还称,“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺...