国产光刻机离浸润式DUV技术仅一步之遥,期待新突破

近期，国家权威机构又发布了另一款国产光刻机，其分辨率已达到65nm，并且套刻精度为8nm，依然是基于ArF干式DUV技术。这些进展表明，尽管国产光刻机在技术上仍落后于ASML十多年，但离浸润式DUV光刻机的水平仅一步之遥。结合光刻机的技术演进图来看，ArF光刻机最高支持65nm工艺，而国产光刻机的分辨率恰好达到了这个...

工信部推广国产重大技术装备突破,套刻精度≤8nm的光刻机在列

为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同,工信部于9月9日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称《目录》)通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm),和氟化氩光刻机(65nm)等集成电路关键生产设备。工信部微信公众号“工信...

国产光刻机突围!上海国产光刻机在国内产线上实际应用情况

不过话说回来，国产光刻机虽然取得了历史性突破，但目前来看，整个市场格局仍旧对我们不是很有利——毕竟进口设备仍占据了全球市场的绝大多数份额。根据2020年数据显示，国际光刻机巨头们占据了93%的市场，而我们的国产设备仅占7%。这意味着，尽管我们在某些领域有了明显进步，但整体上来看，挑战还真是不容小觑。接...

从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘

ASML是光刻机的集大成者,引领光刻机的技术进步。目前来看,国内光刻机国产化率不足1%,是国产设备里最需要突破的领域。此前工信部公布的光刻机技术实力如何?很明显,公开的氟化氩光刻机是一台ArFDry光刻机,其精度极限可以理解为65nm制程。坦白来说,公开的设备距离海外先进水平仍有非常大的差距。但考虑...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

“此次官宣的国产光刻机,是一个套刻≤8nm,分辨率65nm,干式,波长193nm,DUV光刻机。”句子不算长,没有一个生僻字。但,如果不是对这行有了解的专业人士,有多少人能看懂?又能看懂多少个词?或许,要真的对这件事有概念,不被轻易带节奏,至少得先了解10件事。

天塌了,英特尔或被收购;国产光刻机重大突破

国产光刻机,重大突破工信部于9月9日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称《目录》)通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm),和氟化氩光刻机(65nm)等集成电路关键生产设备(www.e993.com)2024年11月2日。《目录》中的电子专用装备目录下提到,集成电路生产设备方面包括化氟化氪光刻机,光源248纳米,分辨率≤...

国产光刻机问世实现重大突破,国产芯片从65nm迭代到7nm逆袭之路还...

国产光刻机问世实现重大突破,国产芯片从65nm迭代到7nm逆袭之路还远吗?2024-09-2422:34:26蛋解生意经北京举报0分享至0:00/0:00速度洗脑循环Error:Hlsisnotsupported.视频加载失败蛋解生意经2.5万粉丝暴躁的80后北京爷们所属MCN:轻为MCN02:50印度曾经宣布要造万吨大驱...

光刻机产业链深度报告:国产路漫其修远,中国芯上下求索

最早两代光刻机采用汞灯产生波长436nmg-line和365nmi-line作为光刻光源,可以满足800-250nm制程芯片生产。第三代光刻机采用248nm的KrF准分子激光作为光源,将最小工艺节点提升至180-130nm。第四代光刻机的光源采用193nm准分子激光,将制程提升至130-65nm的水平(通过浸没式技术、双图形技术、多图形等先进技术,...

国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

此次入选推广目录的氟化氩光刻机,应属于干式ArF光刻机。在具体指标上,与ASML旗下TWINSCANNXT:1470以及TWINSCANXT:1460K类似。国产光刻机实力几何?据工信微报发文,此次指导目录是为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。

光刻机重大突破!国产替代主旋律下,三大关键领域或率先爆发!

消息面上,工信部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm)和氟化氩光刻机(65nm)的内容。值得注意的是,官宣发布时间是在一周前的9月9日,人气龙头张江高科仅仅只是频繁放量,市场并未出现大面积涨停潮,在近期发酵后迎来爆发。