预算4.80亿元!中国科学院微电子研究所近期大批仪器采购意向

设备订单生成后1年内交货安装完成。80002024年12月4790nm光刻机配套涂胶显影机采购标的名称:90nm光刻机配套涂胶显影机。采购标的主要功能:。主要目标:涂胶膜厚均匀性:3sigma小于10nm;显影条宽均匀性(0.15umCD测试):3sigma小于10nm;晶圆尺寸:200mm或300mm;。采购数量:1台。采购标的所需质量:提供满足...

预算1.02亿元!西南大学近期大批仪器采购意向

1、采购名称:电驱动系统台架;2、采购标的需实现的主要功能或者目标:(1)台架转速范围:0~10000rpm;(2)台架扭矩测试范围:100Nm~+100Nm;(3)台架功率测量范围12.5~100kW;(4)电流测量范围:-200~+200A;3、采购数量:1套。452024年10月16丘陵山地自由旋转多功能动力测试平台1、采购名称:丘陵山地自由旋...

2.5亿元!浙江大学大批采购仪器

近日,浙江大学发布64项仪器设备采购意向,预算总额达2.50亿元,涉及扫描探针变温原位测量系统、聚焦离子束电子束双束显微镜、多离子源-多检测器飞行时间二次离子质谱、微量吸附量热仪、散射近场原子力显微镜等,预计采购时间为2024年10月~2025年6月。浙江大学2024年10月~2025年6月仪器设备采购意向汇总表...

【预约检测】光谱、色谱、质谱、导热仪、环境、固废、食品、化妆...

1.块材尺寸直径50mm厚度20mm2.薄膜样品直径50mm3.液体样品30ml以上4.粉末样品:试管量4ml注意:1.薄膜模式厚度至少15微米2.每次测试需要2块大小相同,至少一面凭证的样品,能够夹住导热探头即可3.一般低导材料建议长宽大于20*20mm,厚度大于3mm,若厚度小于3mm可多提供几块4.粉末和液体样品建议提供10...

半导体行业专题报告:先进封装加速迭代,迈向2.5D3D封装

相比于采用45nm节点制造的250平方毫米芯片,采用1工艺节点后,每平方毫米的成本增加了1倍以上;而采用5nm工艺后,成本将增加4~5倍。与此同时,先进封装仍处于相对高成本效益的阶段。根据Semi,晶圆制造的设备投资占比超过80%,而封装测试的设备投资占比不到20%。

Nano Lett.:粒径小于1um的硫化物电解质与金属锂接触更稳定

Li10GeP2S12(LGPS)SE具有极高的离子电导率,达到12mScm-1,甚至高于目前实际锂离子电池中使用的有机液体电解质(www.e993.com)2024年11月27日。超高的离子电导率使LGPS成为在电动汽车和电网存储系统SSBs中极有前途的候选SE。然而,SE除了具有高的离子导电性外,对电极具有良好的电化学-机械稳定性,尤其是与锂阳极接触时,也是非常需要的。不幸的是,...

索尼Xperia 1 V开箱评测!看似一样却脱胎换骨的崭新4K影音旗舰

(因此在其他品牌智能型手机上是没有的),尺寸相较上一代增加1.7倍,而这颗感光元件原始画素在4.3:3比例下的总画素为5,200万,拍照实际使用到的4:3比例面积有效画素为4,800万,但索尼预设采用像素合併方式进行1,200画素输出,单位画素面积则从上一代的1.8um提升至2.24um,并没有额外...

激光直写光刻机,多波长激光光刻机提供325nm,375nm,405nm紫外光源

激光光源375nm或405nm任选兼容所有商用光刻胶对比度高达1x20自动聚焦竖直直写或扫描直写模式多波长激光直写光刻机参数直线直写速度:高达350mm/s位移台分辨率:100nm重复精度:100nm晶圆直写面积:1-12英寸衬底厚度:250um-10mm激光光斑大小:0.5um-100um...

干货分享丨电路板(PCB)制造出现各种问题及改善方法

假若输入电压(VIN)等于ADC的满标范围(VINFSR),则抖动要求变为ADC分辨率(N位)和被采样输入频率(fin)的因数。对于70MHz输入频率,总抖动要求是:Tj(rms)=1×(1/215π×70×106))Tj(rms)=140fs由于很多系统通过背板或另外连接分配参考时钟,这会降低信号质量,所以,通常用本机振荡器(低相位噪声的VCXD)做...

一文了解碳化硅晶片的磨抛工艺方案

a)粗磨:1.5um团聚金刚石研磨液+蜂窝树脂Pad,双面研磨工艺该工艺采用的金刚石是团聚金刚石磨料,1.5um的金刚石原晶,去除速率一般稳定在0.8-1.2um/min,面粗在20nm左右。图一1.5um团聚金刚石图二AFM-1.5um团聚金刚石研磨后图三团聚金刚石研磨液