荷兰光刻机限令刚出,中国卡点官宣新技术!落后ASML水平20年?
这台光刻机虽然在技术上与ASML的最先进设备有较大差距,目前只能达到8纳米以下的制程精度,但它的出现标志着中国在光刻机自主研发领域迈出了实质性的一步。西方的“看衰”声音随之而来。有媒体直接评论称,中国的光刻机技术水平比荷兰落后20年,根本无法撼动ASML的市场地位。这种言论不仅充斥着对中国科技发展的质疑,...
骄傲!官宣中国光刻机有重大突破,成为全球唯一生产线完整的国家
在我国成功研发光刻机之前,这项尖端技术仅被少数国家和公司所掌握,结果任何想要使用芯片的国家只能以高价向他们购买。光刻机不仅对技术有很高的要求,还需要投入庞大的成本。值得注意的是,单台光刻机的售价可达到上亿美元,而其生产周期通常以年为单位来计算。近年来,国外对中国芯片技术的禁令日益增加,试图阻碍...
中国造光刻机无望?中科大高层放狠话:中国永远都造不出来
近日互联网上一个播放率极高的视频引起了广大网友的关注,这是对朱士尧专访的截取,视频中朱士尧教授身着正装,面对镜头介绍了光刻机的制造原理及工作原理,同时也是现阶段我国科技领域上研究的核心问题。大家也都很关注中国的技术水平,期待着中国能够打造出属于自己的光刻机,不再受限于人。朱士尧作为科研人员中的佼佼...
阿斯麦CEO回应中国光刻机发展问题:我国是否能自主生产
尽管我国目前还远远达不到国产光刻设备的水平,但是我们所做的一切都是值得肯定的。我们要意识到,高端的晶片并非空想,西方国家也在中低端发展。虽然我们现在有了领先的优势,我们也很希望能尽快追上来,但是这并不是一件容易的事情。正如一些媒体所说,想要制造出自己的EUV光刻机,只能从低端芯片入手,通过不断地...
国际先进芯片制造生产线用了中国公司近600台刻蚀机?上海半导体...
刻蚀机相当于在头发丝直径七千分之一到上万分之一的尺度上加工微观结构论坛上,由市经信委、上海市集成电路行业协会编制的《2024年上海集成电路产业发展研究报告》显示,2023年,尽管全球半导体产业处于发展低谷,技术创新依旧精彩纷呈。通信领域,5G向5.5G乃至6G坚定迈进;高性能计算与AI领域,Chiplet架构、CoWos封装技术等...
全球及中国刻蚀机行业发展现状及竞争格局分析,市场规模有望持续...
半导体制造企业和科研机构需要不断进行技术升级和实验研究,以提高半导体制造效率和降低成本(www.e993.com)2024年10月19日。数据显示,我国2022年模拟芯片市场规模约为2956.1亿元,2017-2022年复合增长率约为6.7%,高于全球同期增长水平。随着半导体技术的不断发展,对刻蚀机的需求也将不断增加。
半导体刻蚀机行业专题报告:国产替代空间充裕
据国际半导体产业协会测算,一片7nm集成电路所经历刻蚀工艺140次,较28nm生产所需的40次增加2.5倍。此外,更多的步骤、更小的尺寸以及不同的材料对刻蚀机的数量、精度、重复性等都提出更高的要求。(2)3DNAND存储芯片堆叠层数不断增长,涉及的刻蚀步骤繁多,对设备的性能及数量都提出需求。1)...
国产刻蚀机达到全球先进水平,拿下60%市场,让美企损失50亿美元
半导体产业是当今世界科技发展的重要支撑,也是国家实力的重要体现。在这个领域中,光刻机和刻蚀机是两个关键的设备,决定了芯片制造的精度和效率。然而,由于技术壁垒和市场垄断,中国在光刻机方面一直处于落后和...
我国芯片领域还有一重要设备被卡脖子 刻蚀机三巨头都是美日企业
半导体企业对刻蚀机的需求量略低于于光刻机,市场研究报告显示,全球刻蚀机市场规模2009年为24亿美元,2019年达115亿美元,预计2025年将增长至155亿美元。而全球光刻机市场2022年全球光刻机市场规模就已经达196亿美元,这主要是因为光刻机设备很昂贵,一台EUV光刻机售价就高达1.2亿美元,荷兰ASML公司近年来每年也就生...
半导体设备中的核心:光刻机占24%,刻蚀机占20%,我国技术如何?
而中微半导体的刻蚀机与国际顶尖水平的应用材料、泛林相比,是处于同一水平的,这一块没有落后。另外再提一下薄膜沉积设备这一块,国内北方华创等也有生产,不过精度大约在14nm的水平,国产化率在10%到15%。可见,半导体设备中的关键产品,我们其实除了光刻机外,其它的并不算特别落后,只要国产光刻机能够有突破,那么...