《光刻机背后的秘密:冷静解析行业真相》
氟化氩的化学式为ArF,作为激光源,它能产生193纳米的激光。光刻机是一种依精度从低到高排列的技术设备,主要分类包括g线、i线、KrF、ArF、EUV等。继续深入,我们发现在ArF的基础上,又分为ArFDry(干法,介质为空气)和ArFi(湿法,浸没式,介质为水)。水的折射率为1.33,193纳米的激光进入水中后,其波...
光刻机重大突破!国产替代主旋律下,三大关键领域或率先爆发!
根据公示,氟化氩光刻机显示为分辨率≤65nm、套刻≤8nm;氟化氪则显示分辨率≤110nm、套刻≤25nm。其中套刻精度通常被指为“多重曝光能达到的最高精度”,按套刻精度与量产工艺约1:3的关系,这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。28nm虽不是最先进技术,但意义依然重大,这是芯片中低端和中高端的分界线,目前除了...
鼎龙股份: 向不特定对象发行可转债募集资金使用的可行性分析报告
??????????????????????????????????????ArF??光刻胶以氟化氩(ArF,193nm)为曝光光源,采用化学放大技干式??ArF(193nm)????????????????????????????指????????术,以聚脂环族丙烯酸酯及其共聚物为成膜树脂,主要以硫鎓盐为光刻胶??...
国产光刻机取得重大进展 氟化氩光刻机套刻≤8nm
TechWeb9月15日消息,从工业和信息化部在官网公布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》来看,国产光刻机已取得重大突破,氟化氩光刻机套刻≤8nm。在《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中,也公布了氟化氩光刻机其他的核心技术指标,晶圆直径300mm,照明波长193nm,分辨率≤6...
猫鼠游戏中的英伟达
不过英伟达有他们的小心思,25%的巨大收入来源不可能说断就断,所以英伟达决定要和美国政府来一场猫鼠游戏,要在这只猫的眼皮底下,偷走奶酪。于是英伟达开始布局一款新的产品——H20。注意,这个H20是“H”和“二十”,不是水分子的化学式。H20这款产品的浮点运算能力仅有296TFLOPs,性能密度只有2.9。这意味着它从纸...
日本住友化学将在韩国建厂生产光刻胶
据日经中文网9月1日报道,日本住友化学8月31日发布消息称,将在韩国生产用于尖端半导体生产的感光材料(光刻胶)(www.e993.com)2024年9月25日。住友化学将投入上百亿日元建立新工厂,新工厂将于9月开工建设,生产的光刻胶适用于形成微细电路的ArF(氟化氩)。新工厂计划自2024年度开始生产。
住友化学新建大阪工厂2022年完工,强化EUV等尖端半导体光刻胶研发
为满足强劲的需求,住友化学于2019年在大阪工厂新建厂房,以扩大其全球最高市场份额ArF(氟化氩)浸润式光刻胶的产能。今后,随着AI(人工智能)技术的发展、新一代高速通信规格5G的商用普及,先进半导体的需求将会增加。在该领域,随着EUV曝光技术成为主流,与其适用的浸润式光刻胶的需求也不断扩大。
住友化学将提高先进半导体光刻胶的全球生产能力
根据住友化学最新公告,住友化学已决定扩大其先进半导体工艺用光刻胶的生产能力。该公司将在其大阪工厂(日本大阪Konohanaku)安装额外的ArF(氟化氩)浸渍光刻和EUV(极紫外)光刻用光刻胶生产线,并在东宇精细化工有限公司(韩国的全资子公司)的Iksan工厂新建ArF浸渍光刻用光刻胶生产厂。大阪工厂的新生产线将于2023财年上...
...长玢岩成岩时代及岩浆源区探讨:锆石U-Pb年代学、岩石地球化学...
锆石Hf同位素分析在中国地质调查局天津地质调查中心实验测试室完成。测试样品分析点位置与锆石测年位置基本相同,仪器为ThermoFisherNeptune型多接收电感耦合等离子体质谱仪(MC-ICP-MS)和193nm氟化氩准分子激光器(NEWWAVE193nmFX),仪器运行条件、详细分析流程和数据校正方法见耿建珍等[17]。
大事件!阿克苏诺贝尔、杜邦正式完成收购!2023上半年巨头收购案大...
据外媒报道,由日本政府支持的投资公司“日本产业革新投资机构”(JIC)计划斥资约9093亿日元,收购全球最大ArF(氟化氩)光刻胶供应商、日本光刻胶龙头JSR。6月26日,JSR宣布,已同意由JIC以该价格收购。未来日本或将以更加激进姿态参与到全球半导体产业竞争中去,进一步改变全球产业竞争版图。