三氯氢硅还原法制取高纯硅的化学原理
2022年10月13日 - 百家号
SiO2+3C=SiC+2CO(g)↑2SiC+SiO2=3Si+2CO(g)↑总反应式:SiO2+2C=Si+2CO(g)↑生成的硅由电炉底部放出,浇铸成锭。用此法生产的粗硅经酸处理后,其纯度可达到99.9%。第二步:SiHCl3的合成SiHCl3是由干燥的氯化氢气体和粗硅粉在合成炉中(250℃)进行合成的。其主要反应式如下:Si+3HCl...
详情
芯片制造过程中的化学反应
2022年5月28日 - 电子产品世界
净化后的三氯氢硅采用高温还原工艺,高纯SiHCl3在H2气氛中还原沉积生成多晶硅,SiHCl3—Si反应见式(3):SiHCl3+H2一Si+HCl(3)多晶硅纯度:4N~6N(4个~6个9,99.99%~99.9999%)。3.3单晶硅制备由于多晶硅在力学性质、电学性质等方面均不如单晶硅,因此还须转变成单晶硅。将高温熔融的多晶硅采用旋转拉伸的方式取...
详情
2018高考全国卷III理综试题及答案
2018年6月9日 - 网易
28.(15分)三氯氢硅(SiHCl3)是制备硅烷、多晶硅的重要原料。回答下列问题:(1)SiHCl3在常温常压下为易挥发的无色透明液体,遇潮气时发烟生成(HSiO)2O等,写出该反应的化学方程式___。(2)SiHCl3在催化剂作用下发生反应:2SiHCl3(g)SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)ΔH1=48kJ·mol13SiH2Cl2(g)SiH4(g)+2...
详情
【深度报告——工业硅】工业硅上市系列专题(三):多晶硅篇
2022年7月21日 - 新浪
硅烷流化床法生产流程的第一步与改良西门子法几乎一致,都是以工业硅、氢气、氯气和氯化氢为原料生成三氯氢硅,并通过分离提纯得到其他还原尾气。不同之处在于第二步,硅烷流化床法将三氯氢硅歧化加氢生成二氯二氢硅,然后生成硅烷气。制得的硅烷气通入流化床反应炉内进行连续热分解,硅烷在流化床内分解沉积的反应方程...
详情