中国科学院半导体研究所等提出免于退极化效应的光学声子软化新理论

此前,科学家认为,只有当Born有效电荷足够强以使得长程库伦作用超越短程原子键强度时,才会出现光学声子软化,但强Born有效电荷导致材料的介电常数与带隙成反比,难以同时拥有高介电常数和大带隙,引起界面退极化效应,限制了材料的应用。中国科学院半导体研究所研究员骆军委团队联合宁波东方理工大学教授魏苏淮,揭示了岩盐矿...

从沙子到芯片:芯片的原理和制造过程

黄色的部分都是连线,功能是将红色部分的晶体管连接在一起,起到数据传递的作用。2-芯片的工作原理:芯片的基本组成元素即半导体PN结,一个由半导体材料硅作为基片,采用了不同的掺杂工艺,在硅中掺杂了其它元素,形成了P型半导体(掺杂硼)和N型半导体(掺杂磷),二者的交界面形成的空间电荷区称为PN结。PN结具有单向导电...

光刻是什么光刻技术在半导体行业有何重要性?这种重要性怎样体现...

光刻技术的基本原理是利用光的特性,将设计好的电路图案精确地转移到半导体材料表面的光刻胶上。这一过程就像是在一张微小的画布上进行极其精细的绘画,每一笔都决定着最终产品的性能和质量。光刻技术在半导体行业的重要性不言而喻首先,它决定了半导体芯片的集成度和性能。随着科技的不断进步,消费者对于电子产品的...

湖北大学曹万强教授:用物理原理解释铁电体在电场作用下发生的各种...

湖北大学曹万强教授:用物理原理解释铁电体在电场作用下发生的各种行为,弛豫,铁电体,电介质,曹万强,湖北大学,物理原理,电场作用

半导体快速退火炉的原理和应用

半导体快速退火炉(RTP)是一种特殊的加热设备,能够在短时间内将半导体材料迅速加热到高温,并通过快速冷却的方式使其达到非常高的温度梯度。快速退火炉在半导体材料制造中广泛应用,如CMOS器件后端制程、GaN薄膜制备、SiC材料晶体生长以及抛光后退火等。一、快速退火炉的原理...

一万八干字详解半导体刻蚀工艺_腾讯新闻

刻蚀是一种重要的半导体制造工艺,其基本原理是通过化学或物理手段,将晶圆表面上的特定材料层部分性地去除,从而形成所需的器件结构或图案(www.e993.com)2024年11月29日。刻蚀技术广泛应用于半导体工业中,包括集成电路制造、传感器制造、MEMS(微电子机械系统)制造等领域。3.1、刻蚀的概念和作用...

一万八干字详解半导体刻蚀工艺_腾讯新闻

刻蚀是一种重要的半导体制造工艺,其基本原理是通过化学或物理手段,将晶圆表面上的特定材料层部分性地去除,从而形成所需的器件结构或图案。刻蚀技术广泛应用于半导体工业中,包括集成电路制造、传感器制造、MEMS(微电子机械系统)制造等领域。3.1、刻蚀的概念和作用...

半导体专题:一文看懂薄膜生长

-原理:利用物理过程将材料从源处转移到基底表面。-优势:对高熔点材料的处理能力强,薄膜成分的精确控制。-劣势:通常需要高真空条件,不能涉及复杂的化学反应。(2)CVD(化学气相沉积):-原理:通过在气体中引入化学气体,使其在表面上发生化学反应形成薄膜。

发光二极管的工作原理是什么?为什么可以发出不同颜色的光?

发光二级管原理图发光二极管由特殊半导体化合物制成,例如砷化镓(GaAs)、磷化镓(GaP)、砷化镓磷化物(GaAsP)、碳化硅(SiC)或氮化镓铟(GaInN)都以不同的比例混合在一起,以产生不同波长的颜色。不同的LED化合物在可见光谱的特定区域发光,因此产生不同的强度水平。所用半导体材料的准确选择将决定光子发射...

二极管(1)定义和原理

3、二极管的工作原理二极管主要是由半导体材料(通常是硅或锗)制成的,具有一个PN结(由P型半导体和N型半导体接合而成)。其工作原理可以从以下两个方面来理解:正向偏置:当二极管的阳极(P区)接正电压、阴极(N区)接负电压时,称为正向偏置。此时,PN结的势垒电压降低,允许载流子(电子和空穴)跨越结区,导致电流...