面向未来高性能电子器件的石墨烯纳米带

这种方法流程简单且与现有半导体制程工艺契合,非常适合于晶圆级石墨烯纳米带的制备。图3石墨烯纳米带的制备方法(a)先进刻蚀法;(b)碳纳米管解锁法;(c)分子合成法;(d)模板法碳纳米管可以看作是卷曲的石墨烯纳米带,因此可以利用等离子体刻蚀和超声等方法剪开碳纳米管的管壁,使其展开成石墨烯纳米带,即“碳...

打破“卡脖”!中国光刻机实现全流程国产化,阿斯麦作何反应?

光学系统是光刻机的核心部分，为了实现纳米级别的精度，光刻机需要使用高品质的透镜和反射镜，这些光学元件的制造要求极高的平整度和纯度，任何微小的瑕疵都会导致制作工艺的失败。因此，光刻机还需要能够实现高度精准操作的机器系统来辅佐，通过精密的计算让光刻机的精度达到近乎纳米级别。为了实现近乎纳米级别的微操，...

混合键合,取得进展|纳米|电介质|光刻胶_网易订阅

直接芯片到晶圆键合工艺比集体芯片到晶圆方法简单得多,集体芯片到晶圆方法只将已知良好的芯片放置在重建的晶圆上,然后将其键合到另一晶圆上。然而,直接键合容易受到污染,因为芯片放置工具直接接触敏感的键合表面,需要非常高的工具清洁度,甚至可能需要现场芯片清洁能力。热挑战混合键合带来的新功率密度水平需要采用新方法...

一万五千字详解什么是芯片流片

实现芯片设计落地:流片过程是将设计好的芯片图案通过一系列精密制造步骤转移到硅片上,形成具有特定功能的集成电路。流片的成功意味着设计的芯片可以顺利转化为市场上的实体产品,直接影响芯片产品的问世和市场竞争力。工艺优化和成本控制:流片过程中的工艺优化和成本控制对芯片的市场竞争力至关重要。随着半导体技术的发展,...

《半导体芯片和制造——理论和工艺实用指南 》美国UIUC何伦亚克微...

《半导体芯片和制造——理论和工艺实用指南》主要包括如下主题:基本概念,例如等离子设备中的阻抗失配和理论,以及能带和Clausius-Clapeyron方程;半导体器件和制造设备的基础知识,包括直流和交流电路、电场、磁场、谐振腔以及器件和设备中使用的部件;晶体管和集成电路,包括双极型晶体管、结型场效应晶体管和金属??半导体场...

西安交通大学教授:微纳制造技术的发展趋势与发展建议

纳制造则是在纳米(10-9m)尺度上进行制造,一般包括纳米电子器件、纳米材料、纳米药物载体和纳米传感器等的制造过程(www.e993.com)2024年11月2日。常用的纳制造加工方法有纳米印刷、原子层沉积和纳米自组装技术等,能够控制材料实现原子和分子水平上的结构制备。微制造和纳制造技术是现代先进制造技术的重要组成部分,两者的重要性体现在其能够实现更低...

全球芯片关键技术研究最新进展

8英寸蓝宝石上制作的GaNHEMT的横截面示意图和工艺流程图片来源:IEEE官网资料制作8英寸蓝宝石上GaN芯片图图片来源:IEEE官网资料新型ECMP技术目前在抛光工艺上,成本、环保等方面仍是制约碳化硅衬底广泛应用的瓶颈。传统CMP(化学机械抛光)需要使用大量的抛光液材料,抛光液成本占抛光环节成本比例较大,这不仅增加了生...

...自研国内首款新型类器官培养基质材料,推出10余款通用器官芯片

研究方向包括:类器官与器官芯片;纳米材料用于药物递送和基因治疗;干细胞再生医学等。医工交叉科学家团队,打造国际首个器官芯片全流程平台药物开发和精准治疗的关键环节在于高通量构建合适的体外生理模型,但传统药物研发评价流程具有一定局限性。比如2D细胞培养难以模拟组织微环境、缺少体内模拟的动态条件;动物肿瘤模型难以...

芯片、晶圆和光刻机的关系

光刻机工作原理演示光刻机技术同其他技术一样，也是快速迭代更新的。现代光刻机根据光源可分为紫外光刻机、深紫外光刻机和极紫外光刻机。根据曝光方式可分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机。芯片制程的发展历程是一个不断突破的过程。芯片尺寸不断缩小，从最初的微米级别，到后来的纳米级别。目前最...

指南共识丨纳米孔测序在病原微生物检测中的应用专家共识

2.1纳米孔测序的原理纳米孔测序是将单分子检测和电流信号传导相结合的测序方法,测序原理上摆脱了NGS的洗脱和PCR扩增(边合成边测序)过程,通过连接接头的马达蛋白将双链核酸解开,在电场力的驱动下使单链核酸分子穿过纳米蛋白孔道,由于不同的碱基通过纳米孔道时会产生不同阻断程度的电流信号,测序仪通过记录电流信号的...