上海光驰半导体:获投2亿!ALD(原子层沉积)技术

ALD（原子层沉积）技术在半导体制造领域具有广泛的应用前景，光驰半导体凭借在该领域的深厚技术积累，已经赢得了市场的广泛认可。此次增资将进一步提升公司的市场竞争力，加速ALD技术的商业化进程，为半导体行业的发展贡献更多力量。综上所述，水晶光电通过翎贲聚光基金对光驰半导体的增资，不仅体现了双方对半导体行业发展的共...

这项ALD技术 牵引国产半导体设备攻克难关

ALD技术全称为原子层沉积技术,在半导体、光伏、新型显示、柔性电子、新能源等领域具有多种应用,是非常关键的核心工艺之一。微导纳米董事会秘书龙文介绍,它通过交替输入不同的气体,使得这些气体在基底上形成原子级厚度的薄膜。由于沉积是在原子层级进行的,所以制备出来的薄膜具有非常好的覆盖率和均匀性,可以在复杂的形貌...

石河子大学先进储能材料与技术兵团重点实验室基础条件平台建设...

2、代理服务收费金额(元):标项一:小功率光伏制氢配电系统设备基础设施采购项目:4000.00元标项二:快速热型原子层沉积仪器采购项目:4000.00元八、公告期限自本公告发布之日起1个工作日。九、其他补充事宜无十、对本次公告内容提出询问,请按以下方式联系1、采购人信息名称:石河子大学地址:新疆石河子北四路...

全球与中国原子层沉积(ALD)设备行业发展规模及前景趋势预测报

1.2薄膜沉积技术分类及对应设备类型(ALD、CVD、PVD等)1.3原子层沉积(ALD)概述1.4原子层沉积(ALD)原理1.5《国民经济行业分类与代码》中薄膜沉积设备行业归属1.6原子层沉积(ALD)设备专业术语说明1.7本报告研究范围界定说明1.8本报告数据来源及统计标准说明1.8.1本报告权威数据来源1.8.2本报告研究...

原子层沉积设备(ALD)行业发展动向及市场前景研究报告

ALD设备设备逐层引入反应气体,使每一层材料都均匀地沉积到基材上。每个气体反应仅沉积一层原子厚度的材料,能够精确控制沉积厚度和材料成分,适用于制造高质量的薄膜,特别是在纳米技术和半导体制造中,能够在复杂的三维结构表面上形成均匀的薄膜,避免了传统沉积方法中的厚度不均问题。有些ALD设备能够在较低温度下操作,...

一文了解原子层沉积(ALD)技术的原理与特点

Part01.原子层沉积技术基本原理一个完整的ALD生长循环可以分为四个步骤:1.脉冲第一种前驱体暴露于基片表面,同时在基片表面对第一种前驱体进行化学吸附2.惰性载气吹走剩余的没有反应的前驱体3.脉冲第二种前驱体在表面进行化学反应,得到需要的薄膜材料...

默克通过开发原子层沉积(ALD)前驱体对应柔性OLED薄膜封装工艺

现有的无机膜使用了通过CVD方法形成的前驱体。前驱体是指在显示屏和半导体工艺中用于堆叠薄膜的沉积过程中的基础材料。然而，随着显示屏技术的不断发展，厚度日益减薄，空气和湿气的渗透问题凸显，导致薄膜中杂质（颗粒）的形成。因此，默克公司采用了原子层沉积（ALD）技术，并持续加大研发投入。ALD是一种通过将一层一...

微导纳米:ALD技术在GAA环绕式栅极技术中占有重要地位,能满足复杂...

ALD技术作为可以应用在半导体集成电路领域的一种共性技术，具有薄膜均匀性好、高保形性、成膜质量高等诸多优点。ALD的薄膜台阶覆盖率可以做到将近100%，薄膜可以很均匀地覆盖在深孔和复杂表面上，是其他薄膜沉积技术难以达成的。ALD技术沉积出来的高质量的薄膜能够满足复杂栅极结构中薄膜沉积的要求。本文源自：金融界AI电报...

中国科学技术大学ALD沉积催化剂合成系统公开招标公告

中国科学技术大学ALD沉积催化剂合成系统招标项目的潜在投标人应在“优质采云采购平台(youzhicai)”获取招标文件,并于2024年08月05日15点00分(北京时间)前递交投标文件。一、项目基本情况项目编号:ZF2024-06-0581项目名称:中国科学技术大学ALD沉积催化剂合成系统...

如何让您的锂电池发挥更大效能?试试Forge Nano 原子层沉积(ALD...

03/使用ForgeNanoALD原子层沉积技术提升电池效能ForgeNano推出了一种名为AtomicArmor??的解决方案,以解决电极结构不稳定的问题并从电池中释放更多容量。该方法采用原子层沉积(ALD)技术,在电池电极材料表面包覆薄膜,可实现厚度可控、均匀致密的纳米涂层。该技术可保护活性材料免受与电解质的寄生反应的影...