国产光刻机突围!上海国产光刻机在国内产线上实际应用情况

其实，瓶颈主要集中在核心零部件上。一个光刻机，尤其核心的光源、镜头和自动对焦系统我们基本上还要依赖进口，尤其像超高精度镜头，完全掌握在国外几家大企业手里。也难怪有专家说，“光刻机核心零部件自主化的问题不解决，设备的全面国产化就没戏。”当然，除了技术上的难点，市场的话语权也很重要。上海微电子的SB...

荷兰短短14个月,向我国售出257台光刻机,获7500亿元!

光刻机在半导体芯片制造里，那可是不可缺少的关键设备。它的工作原理看起来挺简单的，就是用特定的光源去照射光刻胶，然后就能在硅片基底上显露出那些复杂的电路图样。不过，这个过程对精度的要求特别高，导致光刻在芯片制作里属于最复杂、成本最高，并且是很关键的步骤之一。光刻精度提升后，就直接决定了芯片的性能...

央视确认,提升1000倍,国产量子芯片量产,光刻机不再是障碍?

量子芯片与传统的硅基芯片之间存在根本性的差异,硅基芯片基于经典物理学原理,通过控制电流来表示二进制信息(0或1)。量子芯片则利用量子力学中的叠加态和纠缠态特性,能够同时表示0和1两种状态,这意味着量子位(qubit)的信息处理能力远超传统比特。此外,量子芯片还能够在特定条件下实现指数级的运算速度提升,这对于解决...

光刻机首次亮相这项世界大赛,北京电子科技职业学院夺金奖

此次比赛使用的产线级光刻机实训平台,由北航集成电路科学与工程学院团队自主研发,是原光刻机设备1:1比例的实训机型,可利用虚拟仿真技术进行拆解模拟,有效解决了大型设备内部结构复杂、难以直观理解的问题,让学生能更好地了解光刻机的原理和技术。这一突破性创新设备,为集成电路关键工艺设备教学与人才培养提供了重要支持...

大型科普(三)为什么28nm光刻机上多曝也无法做到7nm?

但是因为MOS从变平面变成每个竖起来的,但是MOS管还是需要3根金属线分别连接源极,漏极,栅极来传递信号和供能,所以密度最高间距最小数值的反而变成第一次互联的金属层了,金属层密度一定程度上代表了晶体管密度,所以在FinFET结构下最小间距就变成金属层,而光刻机在金属层能最小做到多少pitch就基本代表了整个芯片的...

光刻机产业链深度报告:国产路漫其修远,中国芯上下求索

工作原理:利用光刻机发出的光通过具有图形的光置对涂有光刻胶的硅片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光置上得图形复印到硅片上,从而使硅片具有电子线路图的作用(www.e993.com)2024年11月6日。这就是光刻的作用,类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上,而光刻机刻的不是照片,是电路图和其他电子元件。

央视确认,国产量子芯片量产,提升1000倍,光刻机不再是障碍?

目前，中国的芯片产业在多种技术路径的支持下，正向更加独立自足的发展方向进发。通过建立完整的自主芯片产业链，中国不仅能够有效应对外部环境变化，还能在全球科技舞台上扮演更加积极的角色。尽管央视传来了量子芯片技术的好消息，但该技术仍处于发展的初期阶段，作为一项前沿科技，其研发过程注定会面临不少挑战和不确定...

奥普光电:超高分辨率激光汤姆逊散射光谱仪为国家重点研发计划项目...

能用于DUV光刻机上面的光源吗?贵司目前这项产品在测试吗?公司回答表示,超高分辨率激光汤姆逊散射光谱仪为国家重点研发计划项目,目标是研制出原理样机及工程样机,研发周期从2023年12月至2026年11月,目前尚未形成产品。感谢关注。点击进入互动平台查看更多回复信息...

奥普光电:超精尺目前尚处于原理样机开发阶段,我们将进一步加大...

奥普光电董秘:超精尺目前尚处于原理样机开发阶段,我们将进一步加大研发投入加快研发进程。投资者:请问贵公司光学产品可应用于光刻机或芯片制造领域吗?奥普光电董秘:目前公司光学产品主要应用于航空航天及国防领域,我们也将基于现有技术基础积极向相关领域进行探索和拓展。

EUV光刻机突破中的科技与产业创新是如何融合的?

EUV光刻机创新历程,是从松散式的科学原理探索研究,逐步形成面向未来产业愿景和产学研用多方协同攻关创新态势,不断打通产业链、创新链上的“断点”“堵点”,成功实现集科学新发现、技术新轨道和产业新方向于一体的“大纵深”整体突破。EUV光刻技术路线验证与商业成功的历史进程,是面向产业发展需求重大科技问题的共同凝练...