路灯白天灭,晚上自动亮,竟然是因为小小的光敏电阻
光敏电阻器为一种无结(PN结)器件,光敏特性主要利用了光导电体导电特性。当光敏电阻在受到光的照射时,如果光子能量大于本征半导体材料的禁带宽度,则价带中的电子吸收一个光子后就足以跃迁到导带,并产生一个自由电子和一个自由空穴,从而使其导电性能增加,电阻值下降。光照停止,自由电子与空穴逐渐复合,电阻又恢复原值。...
从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘
光刻机是半导体制造中的一种关键设备,它使用特殊的光源通过光罩照射到涂有光敏材料的硅片上,形成有效电路图案。根据光源的不同,光刻机可分为G-line光刻机、I-line光刻机、KrF光刻机、ArF光刻机(包括ArFDry和ArFi,统称为DUV光刻机)、EUV光刻机等。光刻机被称为半导体工业皇冠上的明珠,是技术难度、价值量最...
干货分享 | 传感器在汽车底盘控制系统中的应用
车高传感器通常采用光电式车高传感器,其工作原理是将光电式车高传感器安装在车身一端,将悬架的上下运动转变为传感器内部窄槽圆盘的旋转运动,圆盘的转动可以使由发光二极管和光敏二极管组成的遮光器输出进行ON/OFF转换,并将转换信息传输给悬架ECU。当车身高度发生变化也就是悬架形变量发生变化时,圆盘在传感器的带动下...
半导体制造之光刻工艺及原理
光刻胶又叫光致抗蚀剂,它是由光敏化合物、基体树脂和有机溶剂等混合而成的胶状液体。光刻胶受到特定波长光线的作用后,这类材料具有光(包括可见光、紫外光、电子束等)反应特性,导致其化学结构发生变化,使光刻胶在某种特定溶液中的溶解特性发生显著变化,即经显影液后溶解度降低甚至不溶,得到的图案与掩膜版相反。...
泰州市柯普尼:船舶电气认识半导体
光敏性:当受到光照时,导电能力明显变化。利用该特性可做成各种光敏元件,如光敏电阻、光敏二极管、光敏三极管等。接杂性:如果在本征半导体中人微量的杂质(某种元素》,其导电能力明显改变。利用该特性可做成各种不同用途的半导体器件,如二极管、三极管和晶闸管等。这也是半导体广泛应用的最重要原因,...
世华高半导体:为您提供品质光电器件,携手共赢
1.光电开关主要基于光电传感器的工作原理,常见的光电传感器包括光电二极管、光敏电阻、光电三极管和光电二极管等(www.e993.com)2024年10月19日。光电开关通过发射光源发出光束,当被测物体进入或离开光束时,光电传感器会接收到反射或遮挡的光信号,并将其转化为电信号。通过对电信号的处理和判断,可以实现对物体的检测和控制。
半导体专题:一文看懂薄膜生长
-原理:通过在气体中引入化学气体,使其在表面上发生化学反应形成薄膜。-优势:可以在相对较低的温度下进行,适用于大面积涂层,对复杂结构有利。-劣势:需要处理庞大的气体体系,薄膜成分的控制相对较难。(3)MBE(分子束外延):-原理:利用高能分子束来沉积材料,以实现原子层的精确控制。
半导体材料:半导体国产替代关键环节,四大核心赛道龙头梳理
光刻胶是由感光树脂、光引发剂、溶剂和其他助剂混合而成的光敏液体,在紫外光、深紫外光、电子束、离子束或X射线等光源的照射下,其溶解度会发生变化,从而成为一种耐蚀刻材料。根据其化学反应和显影原理的不同,光刻胶主要被分为正性和负性两大类。在集成电路制造中,光刻胶按曝光光源的波长又可细分为g线(...
《食品科学》:上海市农业科学院韩铮研究员等:基于半导体材料的光...
1.1光催化降解原理光催化因其能够避免化学试剂过度使用和具有利用可再生资源太阳能的潜力而受到广泛研究。光催化过程涉及由固体材料(光催化剂)吸收光子引起的化学反应。完整的光催化包括两步:1)当半导体催化材料暴露于紫外线(UV)或可见光时,吸收大于或等于其能隙(Eg)的光子能量(hv),被激发在价带(VB)的一端产生...
一万五千字详解什么是芯片流片
光刻技术在这一环节中发挥着关键作用,它利用光的衍射和干涉原理,将版图上的精细图案精确地投影到硅片上。随后,通过蚀刻等工艺步骤,将这些图案转化为实际的物理结构,从而完成芯片的制作。随着半导体技术的不断发展,版图布线和光罩制作所面临的挑战也在日益加剧。