从沙子到芯片:芯片的原理和制造过程

最后,把显影液喷洒到晶圆表面的光刻胶上,对曝光图形显影,于是掩模上的图形就被存留在了光刻胶上。光刻工作原理光学透镜的作用是:可以聚集衍射光提高成像质量,在光刻技术中为得到尽可能小的图案,在掩模板和光刻胶之间采用了一种具有缩小倍率的投影成像物镜。上述过程后,没有被掩模遮挡的光在显影液作用下会使...

聚焦先进光刻热潮,激发国际交流活力--第八届国际先进光刻技术研讨...

使用光分解猝灭剂以降低光刻图案的粗糙度、采用负性显影技术以提高图案分辨率并在显影过程中降低表面张力、利用非化学放大机制以避免化学放大光刻胶中酸扩散对图案粗糙度的影响等一系列研究手段能有效提高光刻胶整体性能。这些研究对最先进的光刻技术,特别是极紫外(EUV)光刻和电子束光刻具有重要意义。报告人:FengLuo...

国产光刻胶通过量产验证!备受热捧的“光刻胶”是什么?

该公司科研人员介绍，光刻胶是一种感光材料，用于芯片制造的光刻环节，工作原理类似于照相机的胶卷曝光。芯片制造时，会在晶圆上涂上光刻胶，在掩膜版上绘制好电路图。当光线透过掩膜版照射到光刻胶上会发生曝光，经过一系列处理后，晶圆上就会得到所需的电路图。近期还有哪些光刻胶相关的大动作？咱们接着往下看↓...

中国光刻胶,离日本还有多大差距?

光刻胶,顾名思义,就是光刻机在光刻过程中使用的聚合物薄膜材料,英文直译过来是光致抗蚀剂,能在紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射下,发生聚合或解聚反应,把图案留在硅片上。光刻胶工作原理我们平常说的光刻胶,其实是一类产品的统称。按形成的图像来分,有正性和负性两大类。按曝光光源和辐射源...

泽攸科技自主研制的电子束光刻机实现关键突破,有望打破国外技术壁垒

业内人士表示,电子束光刻机是当前推动新材料、前沿物理、半导体、微电子、光子、量子等研究领域发展的重要装备之一。我国在这一领域长期面临技术壁垒,市场高度依赖进口。泽攸科技通过多年技术积累,已构建起完整的电子束技术体系,其产品竞争力和影响力持续提升。

光刻技术的过去、现在与未来

2.光刻技术的关键原理与工作流程2.1光刻机的基本组成与功能光刻机是光刻技术中至关重要的设备,其主要组成包括光源、掩模、镜头系统、投影台和控制系统(www.e993.com)2024年11月25日。光源通常是紫外线灯或激光器,用于产生高能光束。掩模(或称掩膜)是带有所需图案的透明介质,通过光源投射到目标表面。镜头系统负责将图案投射到光刻胶涂覆的...

光刻技术,有了新选择_腾讯新闻

投影式光刻技术20世纪70年代中后期出现投影光刻技术,可以有效提高分辨率。投影式光刻示意图基于远场傅里叶光学成像原理,在掩膜版和光刻胶之间采用了具有缩小倍率的投影成像物镜。早期掩膜版与衬底图形尺寸比为1:1,随着集成电路尺寸的不断缩小,出现了缩小倍率的步进重复光刻技术。

光刻技术,有了新选择_腾讯新闻

投影式光刻技术20世纪70年代中后期出现投影光刻技术,可以有效提高分辨率。投影式光刻示意图基于远场傅里叶光学成像原理,在掩膜版和光刻胶之间采用了具有缩小倍率的投影成像物镜。早期掩膜版与衬底图形尺寸比为1:1,随着集成电路尺寸的不断缩小,出现了缩小倍率的步进重复光刻技术。

光刻技术,有了新选择

说到电子束光刻技术,在这里要再提及一下光刻技术的原理。众所周知,光刻是整个微加工工艺中技术难度最大,也是最为关键的技术步骤。所谓光刻就是通过对光束进行控制,在一层薄薄的光刻胶表面“刻蚀”出我们需要的图案,光束照过的位置光刻胶的化学性质会发生变化,通过显影液的浸泡会使照射过的部分去除(正胶)或者...

光刻技术,新里程碑

早在20世纪80年代,IBM就开发出了这种直写光刻技术。从原理上看,多光束直写利用加速电子束在涂有电子束敏感光刻胶的基板上刻画出小于10纳米的特征。暴露在电子束下会改变光刻胶的溶解度,从而能够通过将光刻胶浸入显影剂中来选择性地去除光刻胶的暴露或未暴露区域。