《储能科学与技术》推荐|锂金属负极固态电解质界面膜形成和生长...

与基于经验势函数的CMD和RxMD不同,AIMD通过第一性原理计算原子间的相互作用,因此可以准确模拟电解液在锂金属负极表面的分解和SEI的形成过程。Merinov等采用AIMD模拟方法研究了[Pyr14][TFSI]离子液体在锂金属负极表面形成SEI膜的机理,模拟结果表明Pyr14+阳离子保持稳定并远离锂金属表面,而TFSI-阴离子与锂金属相互作用...

2纳米芯片必备的底层技术,国产厂商还真有储备

“原子层沉积”一次最多只留一层,多余的会被清理掉——会通过注入惰性气体把多余的前驱物和反应副产品带出来出来。整个过程至少需要0.5秒,培养出的薄膜厚度大约为0.01-0.3纳米,如此交替反复之下,一层层地摞,一层层地长,最后形成或薄或厚的膜。拓荆科技的ALD相关设备这方面国产化其实也在突破。2010年成立的拓...

光伏行业深度报告:成结、镀膜、金属化,探究电池技术进步的本质

磷扩:POCl3分解出的P2O5会沉淀在硅片表面,P2O5和硅起反应就有SiO2和磷原子产生,硅片表面会形成一层磷硅玻璃,接着磷原子往硅里扩散。硼扩:BBr3或者BCl3分解产生的B2O3沉淀在硅片表面,B2O3与硅反应生成SiO2和硼原子,硅片表面会形成一层硼硅玻璃,然后硼原子向硅中扩散。由此能知道,不管是硼扩还是磷扩,都得先有硼...

这项ALD技术 牵引国产半导体设备攻克难关

ALD技术全称为原子层沉积技术,在半导体、光伏、新型显示、柔性电子、新能源等领域具有多种应用,是非常关键的核心工艺之一。微导纳米董事会秘书龙文介绍,它通过交替输入不同的气体,使得这些气体在基底上形成原子级厚度的薄膜。由于沉积是在原子层级进行的,所以制备出来的薄膜具有非常好的覆盖率和均匀性,可以在复杂的形貌...

外延生长的基础与应用|晶体|晶格|氮化镓|外延层_网易订阅

CVD是一种利用气态化学反应来在衬底上沉积材料的技术。简单来说,气态的化学物质会被引入反应室,然后在高温下分解并沉积在衬底上,形成外延层。CVD具有非常高的灵活性,可以用于各种不同的材料系统。其中的一种变体,金属有机物化学气相沉积(MOCVD),被广泛应用于砷化物、磷化物和氮化物类半导体的生长,例如用于氮化镓(Ga...

...让您的锂电池发挥更大效能?试试Forge Nano 原子层沉积(ALD)技术!

该方法采用原子层沉积(ALD)技术,在电池电极材料表面包覆薄膜,可实现厚度可控、均匀致密的纳米涂层(www.e993.com)2024年11月1日。该技术可保护活性材料免受与电解质的寄生反应的影响,当电池在更高的电压和温度下工作时,电解质的化学性质会变得不稳定。但更重要的是,ForgeNano的原子层沉积(ALD)工艺还可以防止过度反应。

一文了解原子层沉积(ALD)技术的原理与特点

原子层沉积技术(ALD)是一种一层一层原子级生长的薄膜制备技术。理想的ALD生长过程,通过选择性交替,把不同的前驱体暴露于基片的表面,在表面化学吸附并反应形成沉积薄膜。20世纪60年代,前苏联的科学家对多层ALD涂层工艺之前的技术(与单原子层或双原子层的气相生长和分析相关)进行了研究。后来,芬兰科学家...

复旦大学原子层沉积系统(第三次)公开招标公告

原子层沉积系统招标项目的潜在投标人应在复旦大学采购与招标管理系统(网址为:httpsczzx.fudan.edu)获取招标文件,并于2024年02月19日09点30分(北京时间)前递交投标文件。一、项目基本情况项目编号:HW2023111002项目名称:原子层沉积系统预算金额:300.000000万元(人民币)...

全球与中国原子层沉积(ALD)设备行业发展规模及前景趋势预测报

1.1薄膜沉积是半导体工艺三大核心步骤之一1.2薄膜沉积技术分类及对应设备类型(ALD、CVD、PVD等)1.3原子层沉积(ALD)概述1.4原子层沉积(ALD)原理1.5《国民经济行业分类与代码》中薄膜沉积设备行业归属1.6原子层沉积(ALD)设备专业术语说明1.7本报告研究范围界定说明...

后摩尔时代,制造业将在原子层面被重新定义

原子层沉积技术(atomiclayerdeposition,ALD)是一种一层一层原子级生长的薄膜制备技术,凭借沉积薄膜厚度的高度可控性、优异的均匀性和三维保形性,在半导体先进制程应用领域彰显优势,成为一项沉积功能薄膜的重要技术。目前,国内具备原子级制造能力的企业凤毛麟角。位于无锡的微导纳米为其中之一,自2015年成立至今,微...