华林科纳新一代槽式一体机——湿法刻蚀清洗一体机
一、工作原理湿法刻蚀:在将产品放入槽内后,槽盖密封关上,体内开始进行抽真空模式同时超声波开启,此方式利用超声波清洗在一定真空度下优质的空穴效应,增强化学蚀刻溶液与被蚀刻物体表面发生化学反应,排除工件表面和孔隙中的空气,从而有效的剥离或去除部分杂质或材料。DIW清洗:在刻蚀完成后,酸液回收冷却,槽内依然在一...
2.5亿元!浙江大学大批采购仪器
近日,浙江大学发布64项仪器设备采购意向,预算总额达2.50亿元,涉及扫描探针变温原位测量系统、聚焦离子束电子束双束显微镜、多离子源-多检测器飞行时间二次离子质谱、微量吸附量热仪、散射近场原子力显微镜等,预计采购时间为2024年10月~2025年6月。浙江大学2024年10月~2025年6月仪器设备采购意向汇总表...
从“差三代”到“全覆盖”——国产离子注入机自主研发攻关纪实
这一过程要靠离子注入机来完成——通过电磁场控制高速运动的离子,按照工艺要求将其精准注入硅基材料,从而控制材料的导电性能,进而形成PN结等集成电路器件的基本单元。2003年,研发团队开启了高端离子注入机的攻关历程。国内经验匮乏,国外技术封锁,团队成员将当时的情景形容为“孤勇出征”。电科装备旗下北京烁科中科信电...
东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...
其工作原理为氪气与氩气等惰性气体在电场和高压环境下与氟气,氯气等卤素气体发生反应生成不稳定的准分子。而激发态的准分子又不断的分解,释放出了深紫外的光子,通过这种释放光子的过程,可以得到248nm和193nm的光源。由于准分子激光是脉冲式,所以其主要关注点为脉冲频率、输出功率以及持续时间等。(4)EUV光刻机是...
国产半导体设备实现关键突破!
“如同光刻工艺一样,半导体薄膜生长是芯片生产的核心上游工艺。”武汉大学副研究员吴改介绍了这套实验装置的工作原理:将硅、蓝宝石等衬底放入进样腔,通过“高真空环形机械手”将衬底转运至功能不同的腔体,实现衬底的预处理、薄膜生长、等离子体清洗等过程。
半导体制造技术之刻蚀工艺
SI刻蚀C4F8和SF6分别做钝化气体和主刻蚀气体(www.e993.com)2024年10月19日。第一步钝化过程,C4F8在等离子状态下分解成CF+x基,与硅表面反应形成高分子钝化膜,第二步刻蚀,通入SF6气体,增加F离子分解,F-与nCF2反应刻蚀掉钝化膜并生成挥发性气体CF2,接着进行硅的刻蚀。trenchETCH
【复材资讯】哈工大潘昀路、胡平安教授ACS Nano:柔性可穿戴式场...
经全氟葵基三氯硅烷(FDTS)处理和氧离子刻蚀后,纳米阵列表面形成亲/疏水区域。纳米阵列表面不同区域的润湿性变化能够让汗液在测试地点实现自动收集和运输。此外,二硫化钼场效应管部分通过在MoS2材料表面上使用Nafion作为适配体的依附位点进行修饰,使得场效应管具有可回收性。同时NM-FET的超薄、超柔性基底,能够承受一定...
一万五千字详解什么是芯片流片
芯片流片是半导体制造中的关键环节,指将设计好的芯片图案从计算机数据转化为实际硅片上的物理结构的过程。这个过程包含光刻、刻蚀、离子注入、金属沉积等精密工艺,确保在硅片上精确构建设计的集成电路。芯片流片不仅是连接设计与生产的桥梁,还需要严格的质量控制,以保证最终产品的性能和可靠性。任何工艺失误可能导致芯片失...
超纯水机:科技引领,纯净之源的探索者
超纯水机的工作原理复杂而精细,主要包括以下几个步骤:预处理:首先,原水(通常是自来水或井水)通过预处理系统,如多介质过滤器、活性炭过滤器等,去除大颗粒杂质、余氯、有机物等,为后续处理创造良好条件。反渗透(RO):反渗透膜技术是整个系统的核心之一,它利用半透膜的选择透过性,只允许水分子通过,而将大部分溶解盐...
新书上架!德国高级工程师撰写《电子电路版图设计基础 》
2.6.3离子注入402.6.4物理设计参考412.7硅层的生长和结构化432.7.1同质外延432.7.2异质外延和多晶硅452.7.3物理设计参考462.8金属化462.8.1基本原理462.8.2无平坦化的金属化结构482.8.3平坦化的金属化结构492.8.4物理设计参考52...