光子芯片取得重要突破,中国或将绕开EUV光刻机瓶颈

避免了对EUV光刻机的依赖，能够更灵活地应对国际市场的变化。通过自主研发光子芯片，中国有望在不久的将来实现“弯道超车”，摆脱被动跟随的局面。这一进展不仅能够降低对外技术的依赖，还将增强中国在全球芯片市场的竞争力。

光子芯片迈出重要的一步,中国芯片绕开EUV光刻机将成真

相比起硅基芯片,光子芯片对工艺的要求较低,一般只要百纳米以上的工艺就能满足要求,而这方面国内的光刻机也已完全能达到技术水准,更无需依赖ASML用于生产7纳米以下工艺的EUV光刻机。据悉光子芯片较硅基芯片可以快1000倍,而功耗却低得多,如此可以对于5G、物联网、服务器等行业需要高性能、低功耗的行业尤为合适,而...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

光刻机被称为芯片制造的“皇冠”，其复杂的工艺和精密的设计使得它成为制造纳米级芯片的必备设备。而光刻机的研发与制造，不仅需要在光学、材料学和电子技术等领域达到全球顶尖水平，还需要整合跨国供应链中的核心技术。全球光刻机龙头企业荷兰ASML，几乎垄断了最先进的光刻机生产，并依赖多个国家的技术合作。这意味着...

制造光刻机40年,ASML成功的秘密

ASML光刻机的成像原理:通过投射光束,穿过印有电路图的掩模及光学镜片,将电路图曝光在带有光刻胶的硅片上。此时飞利浦已投入光刻机研发十多年,发明出了业内领先的对准系统和独一无二的电动晶圆台,但在和其他十家厂商激烈竞争中不占优势,始终没有订单。赶上日本家电横扫欧美市场,时任飞利浦CEO明确要求尽快结...

俄罗斯仍有5台ASML光刻机可用 军事芯片自主生产挑战

俄罗斯的芯片制造业依赖进口的半导体材料和设备,尤其是光刻机。尽管全球领先的光刻机供应商ASML未曾直接向俄罗斯销售先进设备,但俄罗斯通过第三方获得了一些二手老式ASML光刻机。这些设备虽过时,但在国内生产自研芯片时仍发挥一定作用。同时,面对制裁,俄罗斯还能通过非传统途径获取半导体原材料,如从中国台湾的公司进口硅晶圆...

一台EUV光刻机售价2亿美元,每天能生产多少芯片?多久能赚回本?

考虑到这样的高产出水平,假设我们拿华为最先进的麒麟9000系列芯片来做个例子:在一个标准尺寸的12英寸晶圆上可以切割出多达600块这种高端处理器!这意味着只要持续不断地投入工作,一台EUV光刻机就能提供源源不断的生产能力,足以满足大规模生产的需求,在这中间蕴含的是巨大的经济利益和技术突破的价值(www.e993.com)2024年11月6日。

清华大学光刻机 国产光刻机厂家

元成像芯片：清华大学在元成像芯片领域也取得了突破性进展。通过多层薄膜结构的设计，成功提高了元成像芯片的分辨率，为图像处理领域带来了新的机遇。这一创新技术有望在医学影像、安防监控、航空航天等领域发挥重要作用，并对其他光学成像技术的发展产生积极影响。三、产业影响与展望推动产业升级：清华大学在光刻机领域...

3纳米制程芯片为什么需要EUV光刻机和多重曝光技术?

第二步:引入EUV技术。EUV(极紫外光刻)使用13.5纳米的波长,可以更好地刻蚀出精细的图案。EUV技术有助于缩小芯片尺寸并提高密度。然而,即便是EUV,也面临着分辨率和准确性的问题,尤其是当我们试图在3纳米制程中实现更小的特征尺寸时。图:EUV光刻机原理

俄罗斯制造出首台国产350nm芯片光刻机,并宣称2028年投产7nm芯片设备

而且,俄罗斯科学院院士亚历山大·谢尔盖耶夫还透露,俄罗斯国家物理和数学中心(NCFM)还将构建用于生产现代芯片的X射线光刻机,预计两年内就可以生产出功率比AMSL强很多倍的光刻系统。谢尔盖耶夫称,NCFM所属的一个组织联盟提出了一个创建X射线光刻的项目,目前只有荷兰ASML、美国国家实验室具有相关技术,可为光刻机提供...

2024,中国芯片还需更多DUV光刻机

相比之下,目前国产光刻机能达到的理想水平在28nm左右,其国产化率和良率在短期内也无法得到保证,暂时还不足以完成对前者的完美替代。//注:NXT:2000以上系列的浸润式DUV光刻机在海外EUV不受限的晶圆厂,一般会用到7nm以下来配合EUV生产先进工艺芯片,中国大陆的foundry也主要用来做10nm以下工艺,14nm以上成熟工艺主要...