【芯历史】国产光刻机研发是如何与行业脱节的;高启全退休 传至少...

而这时国家科技部才组织实施“十五”863计划“100纳米分辨率193纳米ArF准分子激光器步进扫描投影光刻机”重大项目的研制与攻关,计划在2005年完成试生产样机,2007年小批量生产。2002年国家在上海组建上海微电子装备有限公司(SMEE)承担“十五”光刻机攻关项目时,中电科45所将从事分步投影光刻机研发任务的团队整体迁至上...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

光刻机的技术复杂性在于，它需要极高的光学精度和纳米级的操作控制。为了让一束光能够在纳米尺度的范围内精确雕刻芯片线路，光刻机必须使用由多达几十枚顶级镜片组成的光学系统。此前，全球只有极少数国家的企业掌握了这种光学镜片的制造技术，而中国必须在完全封锁的环境中自行开发。从光源、镜片到机床的精度控制，每...

专家解读65纳米光刻机的分辨率 技术瓶颈与多重曝光潜力

该研究指出,对于0.93数值孔径的65纳米光刻机,单次曝光要求的套刻精度为8纳米,而在双重曝光模式下,要求进一步提高到5.6纳米。这意味着,即便是8纳米套刻精度,在双重曝光至40纳米分辨率的需求面前也显得不够。况且,40纳米仅是浸没式光刻机单次曝光的水平。根据可得的历史资料分析,65纳米分辨率、8纳米套刻精度的光...

制造光刻机40年,ASML成功的秘密

ASML光刻机的成像原理:通过投射光束,穿过印有电路图的掩模及光学镜片,将电路图曝光在带有光刻胶的硅片上。此时飞利浦已投入光刻机研发十多年,发明出了业内领先的对准系统和独一无二的电动晶圆台,但在和其他十家厂商激烈竞争中不占优势,始终没有订单。赶上日本家电横扫欧美市场,时任飞利浦CEO明确要求尽快结...

重磅!50亿光刻机厂入驻浙江,ASML面临不利局面!

ASML被誉为“光刻机之王”，它是目前唯一能够制造EUV光刻机的厂家。EUV光刻机在技术上取得了重大突破，它的工作原理决定了芯片的雕刻精度，进而影响到其大小和性能。EUV光刻机利用波长极短的紫外线光（仅5纳米），这越短的波长意味着更高的雕刻精度，因此也使芯片的处理速度更快，功能更为强大。如此高端的技术...

官宣!投资50亿光刻机工厂落户浙江,ASML最不愿意看到的情况出现

芯片是是光刻机在圆晶上雕刻纹路制作而成的,光刻机雕刻的精度直接决定了芯片的大小和质量,EUV指的是紫外线光,这是一种波长极短的光,仅有5纳米(www.e993.com)2024年11月2日。光的波长越短,雕刻的精度就越高,芯片处理得就越快,功能就越强大。拥有这样的技术,EUV光刻机的价格自然不会低,因为它光成本就高达2亿美元,世界上能买的起的...

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

(2)光刻机工作原理类似胶片照相机,均是通过光线穿透将电路图形在晶圆表面成像,但光刻机的精密度远远高于照相机。光刻机将光源射出的高能镭射光穿过掩膜版,缩图透镜将掩膜版的电路图缩小很多倍后,将图形集成在即将曝光的晶圆片上。我们可以将光刻机类比照相机,被拍摄的物体等同于光刻过程中的衬底,聚光镜就是单反镜...

ASML称可远程锁死光刻机,这多可怕啊,国产必须顶上来

在逆向工程领域，俄罗斯投入了好多资源呢，把西方先进的光刻机给全面地拆解和分析啦。他们对光刻机的各个部件进行拆卸和研究，俄罗斯的科研人员就这么把光刻机的基本原理和关键技术给掌握啦，还在此基础上搞起了自主创新和优化。这种“从后往前搞”的办法呀，虽然耗费时间和精力，可却是掌握核心技术必须走的路呢。...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...

可制造5纳米芯片!佳能计划推出低成本设备替代光刻机

佳能计划今年推出低成本芯片制造机,以颠覆芯片制造机行业。负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明1月27日接受采访称,采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标今年或明年出货。佳能于去年10月宣布推出FPA-1200NZ2C,称其可制造5纳米芯片。佳能方面表示,这款新设备的成本“将比ASML的EUV少一位数”,耗电量...