中国首台芯片光刻机成功交付,振奋人心的重大进展!

大家都知道，芯片是现代电子设备的核心部件，从手机到电脑，从汽车到家电，几乎无处不在。而在芯片制造过程中，光刻机可以说是最关键的设备之一。它就像是一个超级精密的印刷机，能够将复杂的电路图案精确地"印刷"到硅片上，从而制造出各种功能的芯片。长期以来，高端光刻机一直是我国芯片产业的一大短板。全球最先进...

光子芯片取得重要突破,中国或将绕开EUV光刻机瓶颈

避免了对EUV光刻机的依赖，能够更灵活地应对国际市场的变化。通过自主研发光子芯片，中国有望在不久的将来实现“弯道超车”，摆脱被动跟随的局面。这一进展不仅能够降低对外技术的依赖，还将增强中国在全球芯片市场的竞争力。

光子芯片迈出重要的一步,中国芯片绕开EUV光刻机将成真

中国在光子芯片产业化方面的推进,将有助于中国芯片行业实现弯道超车,因为如今都清楚研发EUV光刻机的技术难度实在太大,ASML的EUV光刻机就需要全球数十个国家的5000家企业合作,如果沿着这样的路线前进,中国芯片就只能一直跟随,而在光子芯片等先进芯片技术方面发展,现有的海外先进芯片产业链就可能不再是中国芯片的桎梏。

制造光刻机40年,ASML成功的秘密

ASML光刻机的成像原理:通过投射光束,穿过印有电路图的掩模及光学镜片,将电路图曝光在带有光刻胶的硅片上。此时飞利浦已投入光刻机研发十多年,发明出了业内领先的对准系统和独一无二的电动晶圆台,但在和其他十家厂商激烈竞争中不占优势,始终没有订单。赶上日本家电横扫欧美市场,时任飞利浦CEO明确要求尽快结...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

传统的胶片电影放映时,会先打出一束光,让光线穿过一个像放大镜一样的镜头,再穿过一层电影胶片,就能把胶片上的图案,投射到银幕上。光刻也类似。也是打出一束光,穿过一组掩膜版,再穿过一层透镜系统,就能把掩膜版上刻着的电路图,投射到制作芯片的衬底,也就是晶圆片上。

没有EUV光刻机,怎么做5nm芯片?

目前ArF光刻机的镜头可将sinθ值做到0.93,EUV光刻机目前只能达到0.33,Hyper-NAEUV的目标值是0.75,也是ASML的终极项目(www.e993.com)2024年11月6日。如果未来没有新技术发明出来,这很可能是芯片物理光刻技术的终结。2)缩短波长:材料与镜头的精准搭配缩短波长主要依靠光源的改变,比如g-Line,i-Line的UV(紫外光),KrF,ArF的DUV(深紫外光)...

清华大学光刻机 国产光刻机厂家

元成像芯片：清华大学在元成像芯片领域也取得了突破性进展。通过多层薄膜结构的设计，成功提高了元成像芯片的分辨率，为图像处理领域带来了新的机遇。这一创新技术有望在医学影像、安防监控、航空航天等领域发挥重要作用，并对其他光学成像技术的发展产生积极影响。三、产业影响与展望推动产业升级：清华大学在光刻机领域...

3纳米制程芯片为什么需要EUV光刻机和多重曝光技术?

第一步:理解光刻技术。光刻技术是指通过使用光将电路图案转移到硅片上的过程。传统上,我们使用的是193纳米的深紫外(DUV)光源。然而,随着芯片特征尺寸越来越小,传统DUV光源难以实现精细的图案。图:EUV光刻机第二步:引入EUV技术。EUV(极紫外光刻)使用13.5纳米的波长,可以更好地刻蚀出精细的图案。EUV技术有助于...

??光刻机之战

光刻机的工作原理,或者说现代芯片制作的基本原理本身并不难懂,这个过程大致包括:(1)画出线路图;(2)把线路图刻到玻璃板上,制成掩膜(也叫光罩);(3)把掩膜上的线路图用强光投射到涂了光刻胶的硅片(晶圆)上,光刻胶被强光照射的部分变得可以溶解,这样就在硅片上曝光出了线路图;(4)对硅片上的线路图多次使用刻...

全球最强的光刻机为何出现在荷兰!芯片界的唯一老大!荷兰ASML

最早期的光刻机大概出现在上世纪60~70年代,可以理解成超猛的幻灯机或是相机,原理是让光透过上面有电路图的光照投影到涂有化学物的晶元上面,因为当时不是什么夸张的高科技半导体公司,通常自己来做,像是英特尔就曾经做过阳春版本。后来日本佳能和尼康踏入这个领域。在90年代,光刻机以日本企业和GCA这家公司分庭抗礼。