清华大学光刻机 国产光刻机厂家

这一技术利用先进的光学设计和激光传输理论，实现了高功率、高稳定性的激光输出，为EUV光刻机提供了更高效、更精确的工具。高能量激光器驱动技术的突破将提升EUV光刻机的曝光效果和光学系统的稳定性，从而提高芯片制造的精度和质量。

国产光刻机新进展:能多层曝光造8nm芯片

国产光刻机主要采用的是深紫外线（DeepUltraviolet，DUV）技术，而荷兰的阿斯麦公司则拥有最先进的极紫外光（ExtremeUltraviolet，EUV）光刻机。这两种技术有本质的区别，EUV光刻机能够支持生产更精细、更小的芯片，即能够制造5纳米及以下的制程芯片，这是DUV技术无法做到的。因此，虽然理论上使用多重曝光技术可能达到...

2024年中国光刻机产业链图谱研究分析(附产业链全景图)

中国光刻机产业链上游为材料、设备及组件,材料及设备包括光刻胶、电子特气、涂胶显影设备等,组件包括激光器、掩膜板、掩膜台、遮光器等;中游为不同类型光刻机,包括有掩膜光刻机和无掩膜光刻机;下游为应用领域,包括芯片制作、芯片封装、功率器件制造、LED、MEMS制造。图片来源:中商产业研究院二、上游分析1.光...

3纳米制程芯片为什么需要EUV光刻机和多重曝光技术?

第一步:理解光刻技术。光刻技术是指通过使用光将电路图案转移到硅片上的过程。传统上,我们使用的是193纳米的深紫外(DUV)光源。然而,随着芯片特征尺寸越来越小,传统DUV光源难以实现精细的图案。图:EUV光刻机第二步:引入EUV技术。EUV(极紫外光刻)使用13.5纳米的波长,可以更好地刻蚀出精细的图案。EUV技术有助于...

新型国产光刻机发布,谣言四起,但仍面临18年的技术差距

在探讨光刻机的性能优势之前，我们首先需要深入理解其制造芯片的基本原理，以便能准确地评估这些技术特征的先进性。简而言之，光刻机制造芯片的过程类似于在微缩画布上进行极精细的绘画创作。这个“画布”即为硅晶圆，而“颜料”则是光刻胶，光源则扮演着“画笔”的角色。将涂覆了光刻胶的硅晶圆置于光刻机中，机器...

从“差三代”到“全覆盖”!国产芯片制造核心装备实现新突破

提起离子注入机,熟悉集成电路的人都知道,该设备与光刻机、刻蚀机、镀膜机并称为芯片制造的“四大核心装备”,其高端市场长期被国外垄断(www.e993.com)2024年11月6日。20多年前,为突破集成电路装备自主创新的堵点卡点,中国电科所属中电科电子装备集团(以下简称“电科装备”)第四十八研究所组建研发团队,走上离子注入机科研攻关之路。

??光刻机之战

光刻机的工作原理,或者说现代芯片制作的基本原理本身并不难懂,这个过程大致包括:(1)画出线路图;(2)把线路图刻到玻璃板上,制成掩膜(也叫光罩);(3)把掩膜上的线路图用强光投射到涂了光刻胶的硅片(晶圆)上,光刻胶被强光照射的部分变得可以溶解,这样就在硅片上曝光出了线路图;(4)对硅片上的线路图多次使用刻...

全球最强的光刻机为何出现在荷兰!芯片界的唯一老大!荷兰ASML

答案就是靠光,有点像底片的原理,透过紫外光把设计图缩小到晶圆上面。一个芯片品质如何,关键就在于这个步骤,也就是光时刻所能达到的精密度。接下来工程师会把晶元上的电子元件制作并连接完成,送到封装厂后,封装绝缘的外壳就是一颗芯片了。刚才说过,在这段极度经历的过程里面,光刻是品质的关键,在整个制造过程中占...

光刻技术的过去、现在与未来

光刻技术的关键原理与工作流程光刻技术的应用与发展现状当前光刻技术面临的挑战与解决方案光刻技术的未来发展方向光刻技术作为一项精密的微纳米加工工艺,通过将设计好的微小图案转移到光敏感的材料表面,为各个领域的微细结构制造提供了技术支持。其核心在于利用光刻机,将精准的图案投射到光敏感材料上,从而实现微...

华为新专利能突破EUV封锁?

近日,有外媒报道称,华为与国企半导体公司深圳市新凯来技术有限公司(SiCarrier)公布了一项新的芯片制造专利,该专利被指为是一项低技术但具有巨大潜力的制造方式,且能减少对先进制程光刻技术的依赖,能在没有ASML公司最先进的极紫外光刻机(EUV)的情况下就能生产先进制程芯片。