【芯历史】国产光刻机研发是如何与行业脱节的;高启全退休 传至少...

同时国外从1978年开始转向分步重复投影光刻,此时中国科学界也已认识到,分步投影光刻技术的优越性,但限于国内工艺基础差,难以实现。但是根据八五、九五期间我国微电子技术发展的要求,迫切需要相当数量的分步光刻机,而当时国际上一台i线分步光刻机的售价是160万美元,一台准分子激光DSW光刻机的售价是210万美元,一套g...

国产光刻胶通过量产验证!备受热捧的“光刻胶”是什么?

团队主攻关键光刻胶底层技术研发，已在电子化学品领域深耕20多年。该公司科研人员介绍，光刻胶是一种感光材料，用于芯片制造的光刻环节，工作原理类似于照相机的胶卷曝光。芯片制造时，会在晶圆上涂上光刻胶，在掩膜版上绘制好电路图。当光线透过掩膜版照射到光刻胶上会发生曝光，经过一系列处理后，晶圆上就会得到所...

中国光刻胶,离日本还有多大差距?

光刻胶,顾名思义,就是光刻机在光刻过程中使用的聚合物薄膜材料,英文直译过来是光致抗蚀剂,能在紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射下,发生聚合或解聚反应,把图案留在硅片上。光刻胶工作原理我们平常说的光刻胶,其实是一类产品的统称。按形成的图像来分,有正性和负性两大类。按曝光光源和辐射源...

天价EUV光刻,何去何从?

电子束光刻(EBL&MEBL)电子束光刻(EBL)是一种利用高能电子束来替代光源,直接在硅片上雕刻图案的方法,它的分辨率相比于EUV光刻更高,但制造速度很慢,只能逐步刻画,不适合大规模量产。目前它主要用在量子计算芯片、超表面芯片等高精度小批量芯片中。电子束光刻原理图(图源:SpringerLink)在此基础上,业界还推出了MB...

泽攸科技自研电子束光刻机实现关键突破,有望打破国外技术壁垒

近日,据知情人士透露,国内微纳技术领军企业泽攸科技联合松山湖材料实验室,在全自主研发的电子束光刻机整机开发与产业化项目上取得重大进展。他们成功研制出电子束光刻系统,实现了电子束光刻机整机的自主可控。这标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。业内人士表示,电子束光刻机是当前推动新材料、前沿物理...

MEMS的原理、分类、常见工艺及工具概述

光刻的精度直接影响到MEMS设备的性能,因此选择合适的光源(如紫外光、电子束或X射线)和光刻胶是非常关键的(www.e993.com)2024年11月25日。此外,温度和湿度的严格控制也是确保图案精度的重要因素。键合(Bonding)键合技术用于将不同的材料层或器件层连接起来,是创建多层MEMS结构的关键步骤。常见的键合技术包括硅对硅键合、玻璃对硅键合和金属键合等...

光刻技术的过去、现在与未来

光刻或电子束曝光:利用光刻或电子束曝光技术将设计好的图案投射到掩模上。这个步骤需要高精度的设备和技术,确保掩模上的图案与设计的图案完全一致。图案检验与修正:制作完成后,掩模需要进行严格的检验和修正。利用显微镜等工具检查掩模上的图案是否与设计一致,如果存在缺陷或不符合要求,则需要进行修正。

光刻技术,有了新选择_腾讯新闻

选择之三:电子束光刻(EBL&MEBL)技术说到电子束光刻技术,在这里要再提及一下光刻技术的原理。众所周知,光刻是整个微加工工艺中技术难度最大,也是最为关键的技术步骤。所谓光刻就是通过对光束进行控制,在一层薄薄的光刻胶表面“刻蚀”出我们需要的图案,光束照过的位置光刻胶的化学性质会发生变化,通过显影液...

光刻技术,有了新选择_腾讯新闻

选择之三:电子束光刻(EBL&MEBL)技术说到电子束光刻技术,在这里要再提及一下光刻技术的原理。众所周知,光刻是整个微加工工艺中技术难度最大,也是最为关键的技术步骤。所谓光刻就是通过对光束进行控制,在一层薄薄的光刻胶表面“刻蚀”出我们需要的图案,光束照过的位置光刻胶的化学性质会发生变化,通过显影液...

光刻技术,有了新选择|光刻机_新浪财经_新浪网

电子束光刻按照曝光方式划分可分为两种,投影式曝光与直写式曝光。投影式曝光通过控制电子束照射掩模图形,将掩模图形投影至光刻胶表面,把掩模板上的图案转移到光刻胶上,原理类似于照相机,拍摄对象好比掩模板,光刻胶就像是胶卷,通过光线的照射把拍摄对象投影到胶卷上。