iCE 3500 原子吸收光谱仪

无需更换,无需重新校准双单色器性能中阶梯光学系统,棱镜/光栅双单色器一快速且光通量高双背景校正功能四线氘灯(D2)和塞曼效应,选择zui适合你的方式.iCE3500独特的对称双光路设计.光学双光束系统.当火焰为样品光束时,石墨炉就为参比光束.此可变功能设计构思的新突破。ICE3500包括全自动6灯座带全部灯...

沿着前辈的足迹前进 ---东西分析原子光谱之路

仪器具备氘灯和塞曼两种背景校正方式,塞曼背景校正时可扣除高达2A的背景,扣除倍数大于100倍。该仪器荣获“科学仪器行业优秀新产品”奖,实至名归。AA-7090型原子吸收分光光度计后记从“东西电子”到“东西分析”,从国内市场到国际市场,从民营企业到收购国际知名公司,从AA-7000手动原子吸收到AA-7090全功能型原...

PE PinAAcle900 系列原子吸收光谱仪

PinAAcle的火焰模式具有真正的实时双光束设计,可实现快速启动和无需校准地卓越的长期稳定性。氘灯背景校正确保在较大的波长范围内zui大程度地提高灵敏度和精-确度,并且通过燃烧器位置调节向导自动调整燃烧头位置(从垂直和水平方向上)。WinLab32软件还有气流优化向导,用于获得测量特定元素的zui高灵敏度。仪器的应用中添...

美国官方报告:深度解析EUV光刻的现状、需求和发展

对于校正,行业需求是:(a)对粗糙度和缺陷进行与节距无关的校正,以保留目标布局,如图所示图11,(b)新DSA分子与高气材料,具有高选择性干蚀刻和选择性渗透,(c)3-ton-A-B-C嵌段共聚物,(d)功能嵌段共聚物和刷子(光图案化、可交联等)。图11.图中显示了DSA如何不保留目标布局,因此需要对粗糙度...

EUV光刻机重磅报告,美国发布

EUV光刻技术背景EUVL是制造下一代半导体芯片的关键步骤。EUV光是由高纯度锡产生的高温等离子体产生的。固体锡在液滴发生器内熔化,该仪器在真空室中每分钟连续产生超过300万个27??m的液滴。平均功率为25kW的二氧化碳(CO2)激光器用两个连续脉冲照射锡液滴,分别使液滴成形并电离。最初,产生了数千瓦的EUV光,但由...

太原疾防中心1248万采购17套仪器设备 附详细技术要求_资讯中心...

项目概况:太原市疾病预防控制中心承担着太原市突发公共卫生事件(包括食物中毒、职业中毒)的处置、食品安全风险监测和生活饮用水监测等工作,购置液相色谱三重四极杆质谱仪、气相色谱质谱仪(三重四极杆)、电感耦合等离子体发射光谱仪等设备,解决食品中农药残留、兽药残留和非法添加物的检测、生活饮用水中各种有机污染物、农...

原子吸收分光光度计的几种干扰和消除办法

2、连续光源背景校正先用锐线光源测定分析线的原子吸收和背景吸收的总和。再用氘灯在同一波长测定背景吸收计算两次测定吸光度之差,即为原子的吸光度。旋转斩光器交替使氘灯提供的连续光谱和空心阴极灯提供的共振线通过火焰;连续光谱通过时:测定的为背景吸收(此时的共振线吸收相对于总吸收可忽略);...

中国制造困局:某土壤环境监测项目排除“大陆产”仪器

3光谱仪主机系统:火焰-石墨炉一体机,氘灯和塞曼背景校正,火焰-石墨炉全自动切换。3.1光学系统★3.1.1火焰结构为:双光束3.1.2波长范围:190-900nm。3.1.3光栅刻线密度:??1800条/mm。3.1.4光学系统:高性能全反射光学系统,光学系统密封。