今年5nm,两年后2nm,EUV光刻机的搅局者,终于改变芯片格局

作为光刻机领域的搅局者,日本佳能公司近日宣布,其研发的纳米压印机FPA-1200NZ2C将在今年正式量产。这款设备不仅可以用于5nm芯片的制造,而且预计在未来还将升级到2nm制程,彻底绕开EUV光刻机方案。佳能公司的这一突破,不仅意味着光刻机市场的竞争将进一步加剧,而且也为全球芯片制造格局带来了新的变数。与传统的EUV光...

专家解读65纳米光刻机的分辨率 技术瓶颈与多重曝光潜力

根据可得的历史资料分析,65纳米分辨率、8纳米套刻精度的光刻机主要适用于65至55纳米的芯片制造过程,无法有效通过双重曝光技术跨入32纳米、28纳米等更精细的制造领域。

“光刻机”第一真龙,沉睡三年,有望从17元涨到69元

“光刻机”第一真龙,沉睡三年,有望从17元涨到69元光刻机,亦称光刻对准曝光机或掩模对准曝光机,是半导体制造领域的关键设备。它不仅在光刻工艺中占据核心地位,还在整个芯片制造过程中起到至关重要的作用。作为微电子和半导体工艺中的核心组件,光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”,其重要性不言而喻。光刻机...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

如今随着我国成功制造出65纳米光刻机,西媒的话术又变成了中国不可能生产出28纳米的芯片。他们完全看不到,中国已经成为全球唯一一个拥有光刻机完整生产线的国家。自中美贸易战爆发以来,光刻机这一高端制造设备成为了全球技术封锁的焦点。光刻机被称为芯片制造的“皇冠”,其复杂的工艺和精密的设计使得它成为制造...

能耗据称只要十分之一!佳能交付首台新型纳米压印光刻机

佳能光学产品副首席执行官KazunoriIwamoto对媒体表示，公司计划在未来3-5年内，每年销售10-20台此类设备。对于佳能来说，进一步推广纳米压印技术也存在一些挑战。首先由于“压印”的物理机制，这种光刻机需要更先进的技术防止细小的尘埃颗粒造成芯片缺陷。同时由于芯片制造涉及广泛的产业链，拓展更多公司、特别是材料企业...

【转单】英伟达7纳米转单三星代工,台积电股价重挫 ;ASML研发新代...

4.光刻机领域王者ASML研发新代机型,2025年1纳米工艺可期5.切入大陆厂供应体系加持,全新Q2营收季增31.2%6.南亚科第2季营收回温,预期下半年优于上半年1.NVIDIA7纳米转单三星,台积电股价重挫芯科技消息(文/罗伊)昨(2)日晚间传出,NVIDIA韩国区主管柳永军(YooEung-Joon)首度证实,下一代7纳米GPU订单将改由...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

“此次官宣的国产光刻机,是一个套刻≤8nm,分辨率65nm,干式,波长193nm,DUV光刻机。”句子不算长,没有一个生僻字。但,如果不是对这行有了解的专业人士,有多少人能看懂?又能看懂多少个词?或许,要真的对这件事有概念,不被轻易带节奏,至少得先了解10件事。

国产光刻机进展太慢?重点不是这个

值得注意的是,65纳米光刻机并非我们目前已应用的最先进的国产光刻机。这里说的是“已应用的”,而不是“正在研发中的”。相信EUV光刻机的研发早已在进行中。至于工信部为什么不推广最新国产先进光刻机,其实也不难理解。国内目前的需求就足以消化掉国产先进光刻机的产能。也就是说,这款先进光刻机仍然处于供不应...

首台纳米压印光刻机,佳能出货了

由于没有采用光刻中的投影成像原理，纳米压印省去了光刻机造价最昂贵的光学曝光机等成像系统，理论上认为是一种更低成本的方案。按照佳能产品负责人的说法，“纳米压印的价格将比EUV光刻机少一位数”，且耗电量只有光刻的十分之一。与光刻机早早从最原始的接触式进化成非接触式不同，纳米压印采用机械加压方法必须...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...