中国芯片制造技术突破,65纳米光刻机登场,国产化进程加速

然而，现在我们拥有了自己的65纳米光刻机，标志着在芯片制造的道路上迈出了关键的一步。这台光刻机的套刻精度达到了8纳米，意味着我们在制造芯片的精细程度上取得了重要进展。过去我们依赖进口设备，现在我们有了自己的技术，这对国内芯片产业是一个巨大的推动。当前，我们的光刻机是干式光刻机，未来的目标是研发...

首台纳米压印光刻机,佳能出货了

这台纳米压印光刻机将交付给德克萨斯电子研究所,该研究所是德克萨斯大学奥斯汀分校支持的联盟,成员包括英特尔和其他芯片公司以及公共部门和学术组织。该设备将供芯片制造商用于研发。该联盟对外提供对半导体研发计划和原型设施的访问权限,以帮助解决与先进半导体技术(包括先进封装技术)相关的问题。佳能于9月26日宣布...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

尽管中国的光刻机技术起步较晚，但其发展速度令人惊叹。此次推出的65纳米光刻机，虽然与全球最顶尖的7纳米光刻机仍有差距，但已经能够满足大部分工业芯片的生产需求。尤其是在汽车制造、家电智能化等领域，28纳米及以上的芯片需求庞大，而中国自主研发的光刻机正好填补了这一市场空白。更重要的是，随着国产光刻机的...

唯一掌握5nm刻蚀机黑马,业绩大增,外资重仓5941万股,有望腾飞

清华大学借助前沿的“稳态微聚束”技术,成功研制出适用于高端极紫外(EUV)光刻机的核心光源,填补了国内在该领域的空白,为我国自主研发EUV光刻机筑牢了坚实根基。另一方面,有“中国刻蚀机之父”之称的尹志尧博士带领团队,成功研制出国内首台5纳米刻蚀机。这一成果标志着我国在芯片微观加工领域步入国际顶...

生命科学领域“光刻机”全球竞速,中国企业在纳米孔测序仪新赛道...

9月9日,华大正式宣布加入纳米孔基因测序仪阵列,面向全球发布最新测序技术——CycloneSEQ测序技术,两款拥有自主产权的纳米孔测序仪首次对外推出。生命科学领域的“光刻机”华大集团CEO、执行董事尹烨将基因测序仪视作生命科学领域的“光刻机”,而华大自主研发生产这台“光刻机”的缘由外界并不陌生。

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米(www.e993.com)2024年11月22日。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...

牟林:中国半导体产业发展的艰辛与奋斗之路

此观点认为,中国半导体产业与国际先进水平差距过大,难以在短期内追赶。比如在高端芯片制造工艺上,国际先进水平已经达到3纳米甚至更小的制程,而中国在7纳米及以下制程的技术仍面临诸多难题。在半导体设备方面,光刻机等关键设备被国外少数企业垄断,中国的自主研发进展缓慢。

国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

9月9日,工信微报微信公众号发文披露《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中,在电子专用设备一栏,氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示,氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。据东兴证券研报,光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机,市场主流有i-Iine(汞...

厉害了!俄罗斯首台光刻机制造完成,可生产350纳米工艺的芯片

5月25日,据塔斯社报道,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试!消息显示,该设备可生产350纳米工艺的芯片!消息强调,350纳米芯片可用于汽车、能源和电信等多个行业,而且俄罗斯接下来的目标是在2026年制造出130纳米工艺的光刻机!目前,我国可以生产7纳米芯片,但仍有很多人指出远远落后于欧美国家。其实,...

中国芯片加速5纳米量产,以现有设备实现先进工艺的突破

据了解北京一家企业正在研发一种利用现有光刻机生产5纳米工艺的技术,预计很快就能实现量产,该工艺的核心技术是自对准四重图案化(SAQP)技术,类似技术曾被台积电用于7纳米,Intel也曾试图利用该项技术。Intel是最早考虑多重曝光技术的,2014年它就已量产14纳米工艺,2016年ASML还没量产EUV光刻机,Intel就试图利用DUV光刻...