大幅拉升!光刻机巨头,重大宣布

光刻机是制造芯片的关键设备，阿斯麦是全球最大的光刻机制造商，也是唯一的极紫外光刻机供应商。阿斯麦的光刻机，帮助半导体公司生产先进的芯片，应用于苹果智能手机、英伟达AI加速器等。因此，阿斯麦常常被视为整个行业的风向标，以及全球半导体需求的早期指标。阿斯麦总裁兼首席执行官ChristopheFouquet表示：“我们预计，...

想要解决卡脖子的情况,发展国产EUV光刻机,有两个核心问题至今没有...

极紫外线光刻机的两大核心就是光源和镜头,解决了光源,下一个就是镜头。在工业镜头领域,能应用在光刻机上面的产品,只有德国的蔡司镜头可以达到。于是ASML用10亿欧元,购买了蔡司子公司,卡尔蔡司SMT24.5%的股份。两家公司一起联手,为EUV光刻机制造独家的镜头零部件。整合了美国技术和德国技术的ASML,已经成为了...

想要解决国产EUV光刻机卡脖子情况,必须要攻克两个核心难点

目前全球最先进的光刻机产品是荷兰ASML公司生产的双级EUV光刻机，波长为13.5nm，分辨率达到8nm。由于该光刻机的光源为极紫外线，属于软X光，因此无法在光源中央添加介质。这意味着，EUV光刻机与前两代的干式和浸润式光刻机相比，实际上是一种全新的技术产品，以往的技术必须完全重建。EUV光源技术首先，我们来探...

美国芯片与新能源政策:制造业回流、国家安全与孤立主义

阿斯麦最先进的极紫外线光刻机禁售中国,但是深紫外线光刻机可以出口,所以中国企业就买了很多,原因之一是防止未来有额外限制,提前备货,所以中国市场明年的需求量肯定会下降的。第二个原因是荷兰政府在今年9月宣布,未来对深紫外线光刻机的中国出口也要进行审查。半导体设备厂商的收入来源有两个,一个是卖设备,一个是...

重大突破!极紫外光刻新技术问世,超越半导体制造业标准界限,功耗比...

——EUV光刻机于近十年间兴起随着半导体技术的更新换代,光刻机也从最开始的g线(436nm)逐渐发展为近十年间兴起的EUV光刻机,从接触式向接近式,最后演变成步进式为主。EUV光刻机,又称极紫外线光刻机,是芯片生产工具,是生产大规模集成电路的核心设备,对芯片工艺有着决定性的影响,其中,小于5纳米的芯片晶圆,只能...

海目星:中红外飞秒激光技术可激发极紫外光 但光刻机技术难度较高

您好,董秘,请问下成果中第7条产生极紫外辐射,是否可用于生产极紫外线光刻机董秘回答(海目星(37.540,0.73,1.98%)SH688559):您好(www.e993.com)2024年11月23日。中红外飞秒激光技术为平台型技术,理论上可以激发极紫外光,但光刻机的极紫外光源的技术难度相对较高,目前我们的激光技术距离专业光源尚有差距。感谢关注。

海目星:中红外飞秒激光技术为平台型技术,理论上可以激发极紫外光...

公司回答表示,您好。中红外飞秒激光技术为平台型技术,理论上可以激发极紫外光,但光刻机的极紫外光源的技术难度相对较高,目前我们的激光技术距离专业光源尚有差距。感谢关注。点击进入互动平台查看更多回复信息

光刻机的故事(上):如何用极紫外光制造电路板?

随着摩尔定律的推进,芯片上的晶体管数量持续增加,对光刻技术的要求也越来越高。从最初的紫外线到深紫外线,再到极紫外光刻技术,每一次进步都伴随着巨大的技术和工程挑战。光刻机是如何发展起来的?本文分为上下两篇来介绍这个故事:●第一:光刻技术的基础和早期发展,包括极紫外光刻技术(EUV)的起源和初步挑战。

俄罗斯,会比中国先造出EUV光刻机?

至于文章内容,前一半分析了目前EUV光刻机供需格局,核心信息在中国读者看来都算是大路货,后一半则是梳理了俄罗斯研究人员在EUV光源和反射镜上的积累,作者据此认为,俄罗斯可以直接跳过浸没式DUV光刻机,一步到位攻关EUV光刻机:“与中国不同的是,我们拥有成为世界第二大超现代极紫外线光刻机制造商所需的一切”。

颠覆性突破!ASML发布超级EUV光刻机:可量产0.2nm工艺

近日,荷兰光刻机巨头ASML公司(ASML)宣布,其最新研发的超级EUV(极紫外线)光刻机已具备量产0.2nm工艺的能力,这一里程碑式的进展无疑将再次引领半导体产业迈入新的高度。随着制程工艺的不断缩小,半导体制造技术。