芯碁微装主导的直写光刻技术国家标准正式实施

记者获悉,芯碁微装主导起草的直写光刻设备GB/T43725-2024《直写成像式曝光设备》国家标准已通过国家标委会的审核,将于2024年10月1日正式实施。该项国家标准旨在弥补行业标准空白,对设备的设计、制造、检测、安装维护、质量检测与保证等全生命周期环节设定统一、科学的技术规则,从而为行业构建一套完备的体系标准。

芯碁微装:公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及...

公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保及售后服务。公司拥有非常敬业的技术服务团队,为客户提供直写光刻设备的维修、保养以及升级迭代的7*24h的服务。感谢关注!

芯碁微“一种用于直写式光刻机的安全防护系统及方法”专利公布

本发明公开了一种用于直写式光刻机的安全防护系统及方法,包括触发模块,该触发模块用于感应门板金属产生触发信号;控制模块,该控制模块与触发模块连接,所述触发模块用于接收触发信号并输出平台急停信号;以及平台急停模块,该平台急停模块与控制模块连接,所述平台急停模块用于接收平台急停信号,使运动平台所有的运动部件失去使能...

西安交通大学生命科学与技术学院激光直写光刻机竞争性磋商

生命科学与技术学院激光直写光刻机采购项目的潜在供应商应在详见西安交通大学采购与招标信息网(cgb.xjtu.edu)获取采购文件,并于2024年08月05日09点00分(北京时间)前提交响应文件。一、项目基本情况项目编号:西交采招(2024)237项目名称:生命科学与技术学院激光直写光刻机采购方式:竞争性磋商预算金额...

2.67亿元!上海交通大学采购大批仪器

近日,上海交通大学发布80项仪器设备采购意向,预算总额达2.67亿元,涉及超高效液相色谱仪配二极管阵列检测器和电雾式检测器、高精度表面化学机械抛光机、X-ray空洞检测设备、高功率半导体器件分析仪、电感耦合等离子体质谱仪等,预计采购时间为2024年10~12月。

苏大维格:华为海思、中科院开始采用公司研发的三维纳米直写光刻机

金融界12月24日消息，有投资者在互动平台向苏大维格提问：2021年公司董事长曾在省人大会议上面对当时的省委书记说:贵公司用近二十年的努力，研发出国际领先的三维纳米直写光刻机，华为海思、中科院相关研究所开始采用贵公司的三维光刻机，用于下一代光电子领域的研发(www.e993.com)2024年11月1日。请问贵公司在三维光刻机领域有给相关公司或科研...

光刻工艺技术专题(三):低成本光刻技术之激光直写光刻

LDWL使用标准的激光光源。LDWP的光源为高功率飞秒脉冲激光器,可以直接对材料进行加工。早期的LDWL系统主要用于制作光刻掩模,可作为电子束掩模直写设备的高性价比替代方案。激光直写系统的曝光率取决于聚焦光束的形状及其在光刻胶上的扫描/运动方式。激光直写光刻一般用于制备2D或3D图形。

应对先进封装挑战,芯碁微装直写光刻技术助力本土创新突破

其次,直写光刻在良率和产速(UPH)等方面尚不能完全与步进式光刻媲美,而良率的瓶颈主要在于市场上仍然没有专门为直写光刻开发的光刻胶以及配套的光源。传统的光刻胶和介质层材料是为步进式光刻机设计的,直写光刻技术需要与这些材料更好地匹配,以确保光刻质量和效率。最后是许多封装客户对直写光刻技术仍然缺乏了解...

打造国产高端直写光刻平台,业绩5年10倍:光刻不该只有ASML!

目前,直接成像是PCB曝光设备的主流技术。与之类似,泛半导体光刻也有直写光刻和掩膜光刻两类,区别在于是否使用掩膜版,不同的是掩膜光刻相对来说更为主流。关于掩膜光刻机,风云君过去曾在多篇研报中有过深度分析。

国产直写光刻设备龙头,高端产能持续赋能!

先进封装迅速增长,光刻设备需求增加:根据集微咨询预测,2026年全球封装测试市场规模或将达961亿美元,先进封装占比达50%;根据智研瞻数据,2028年全球/中国晶圆级封装设备市场规模将达142/60亿元;封装厂积极布局先进封装业务,带动光刻设备需求增加;公司WLP2000晶圆级封装直写光刻机已批量发货。