光刻胶:半导体技术壁垒最高的材料之一
光刻胶是光刻过程最重要的耗材,光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响。光刻是将图形由掩膜版上转移到硅片上,为后续的刻蚀步骤作准备。在光刻过程中,需在硅片上涂一层光刻胶,经紫外线曝光后,光刻胶的化学性质发生变化,在通过显影后,被曝光的光刻胶将被去除,从而实现将电路图形由掩膜版转移到光刻胶上。再经过...
正丹股份:公司TMA产品下游客户群体较多,具体用途方向暂时无法确认
偏苯三酸酐是一种重要的有机化工原料,广泛应用于涂料、塑料、橡胶、粘合剂等领域,同时也是制造光刻胶的关键原料之一。1.光刻胶的主要组分包括树脂、感光剂、溶剂和添加剂等。其中树脂与感光剂搭配使用,是光刻胶发挥感光作用的主要功能组分。不同类型的光刻胶其树脂和感光剂的成分有很大差别。2.偏苯三酸酐可以用...
603650,光刻胶最强龙头,分红比例近90%,下一个北方华创!
晶瑞电材是国内光刻胶的先驱,i线光刻胶已向国内中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货,KrF光刻胶已量产并供应市场,目前ArF高端光刻胶研发工作在有序开展中。最后总结一下,我国光刻胶行业现有企业竞争压力不大,除了光刻胶本身技术的更新以满足光刻技术的更新迭代之外,光刻胶暂无替代产品,所以其国产...
艾森股份获3家机构调研:PSPI(光敏聚酰亚胺)既起光刻作用又是介电...
答:PSPI(光敏聚酰亚胺)既起光刻作用又是介电材料,用于制作集成电路中的阻挡层,用于特定绝缘和保护作用,形态完成后保留在晶圆上无需去除;调研参与机构详情如下:
4-羟基苯乙烯2628-17-3的基本属性和用途有哪些?
4.**光敏材料**:用于制备感光树脂、光刻胶等光敏材料。5.**有机合成中间体**:作为有机合成的重要中间体,在各种有机合成反应中发挥作用。因此,4-羟基苯乙烯在化工和材料领域有着广泛的下游应用。4-羟基苯乙烯的合成通常可以通过对羟基苯甲醛和丙烯酸进行缩合反应来实现。以下是一种可能的合成路线:...
盘点我国16种“国产替代”新材料突围进展_生产_产能_高性能
并对高端新材料的发展做出明确指示:推动高端稀土功能材料、高品质特殊钢材、高性能合金、高温合金、高纯稀有金属材料、高性能陶瓷、电子玻璃等先进金属和无机非金属材料取得突破,加强碳纤维、芳纶等高性能纤维及其复合材料、生物基和生物医用材料研发应用,加快茂金属聚乙烯等高性能树脂和集成电路用光刻胶等电子高纯材料关键...
光刻工艺技术专题(十):光刻工艺与建模
后烘(PEB)有多个用途。对于大多数化学放大光刻胶,PEB的作用是启动脱保护反应。此外,化学物质的热扩散有利于提高关键尺寸CD的均性,增大显影后图形的侧壁陡度。需要注意的是,烘焙过程中的热处理还可以改变光刻胶材料的消光系数、折射率、扩散和力学性能等物理性能。先进工艺需要非常精准地控制不同时刻的温度,常用冷板...
奥来德2024年半年度董事会经营评述
PSPI属于高端聚酰亚胺,是一种在高分子链上兼有亚胺环以及光敏基因的有机材料,在OLED显示领域、先进封装等尖端制造领域发挥了重要作用,应用前景广泛。根据QYResearch调研,2023年全球PSPI市场销售额约为21亿元,其预计2030年有望达到120亿元。PSPI材料是OLED显示制程的光刻胶,与传统光刻胶相比可以简化光刻工艺,是除发光材...
冯明宪博士演讲:CoWoS:技术、生态与投资(三)
TSV工艺包含晶圆的表面清洗、光刻胶图案化、干法/湿法蚀刻沟槽、气相沉积、通孔填充、化学机械抛光等几种关键工艺,运用到晶圆减薄机、掩膜设备、涂胶机、激光打孔机、电镀设备、溅射台、光刻机、刻蚀机,同时配套的电镀液、靶材、特种气体、塑封料等。TSV工艺流程...
2024 SMM第十二届小金属产业大会圆满落幕!产业发展前景、技术要点...
锑的用途:锑是工业不可缺少的重要原材料,可以说是无处不在,国防,军工,化工,高铁,船舶,光伏,电子,纺织,医药,塑料,等等领域,锑对全球经济持续发展有着极其重要的作用,因此有了“工业味精”的美誉。锑的特殊性:锑是不可再生资源,储量十分稀缺,与稀土、钨、锡并列称为世界四大战略资源。因此,锑也是中国在世界的...