这家有170年历史的公司持续以玻璃推动半导体创新!
以氟化钙为例,氟化钙具有出色的光学透明性,尤其是在紫外光和红外光波段。因此,它被广泛应用于半导体光刻设备中,特别是在高精度光学元件和透镜中。CaF??晶体是光刻系统的关键材料,用于制作高透过率的窗口和镜片,确保激光和紫外光波段的高效传输。在先进的半导体制造过程中,尤其是极紫外光刻(EUV)技术中,氟化钙...
久之洋获得发明专利授权:“甚宽波段透射式望远光学系统”
专利摘要:本发明公开了一种甚宽波段透射式望远光学系统,从物方到像方依次包括窗口、物镜组和目镜组;第一物镜为双凸硫化锌正透镜,第二物镜为凸面向物方的弯月形硒化锌负透镜,第三物镜为双凸氟化钡正透镜,第四物镜为双凹氟化镁负透镜,第五物镜为双凹氟化钙负透镜,第六物镜为双凸硫化锌正透镜;第一目镜为双凸氟化...
综述:红外波段超辐射发光二极管研究进展
早期GaAs基QWSLD主要采用AlGaAs/GaAs材料体系,~850nm波段AlGaAs/GaAs材料体系QWSLD相关工艺技术发展相对比较成熟,并在检测领域得到了广泛的应用。近年来,InGaAs/GaAs材料体系QWSLD得到了广泛研究,已经实现在~1.0??m波段高性能输出;Ohgoh等优化非对称InGaAs双量子阱(DQW)之间的发射波长差,能带结构示意图如图1(...
光刻设备行业深度研究:半导体设备之巅,冰山峰顶待国产曙光
大部分光学材料在深紫外(DUV)波段透过率都很低,可用材料只有熔融石英与氟化钙,世界上只有少数几家材料供应商能够提供。即使是采用最高等级材料制作的透镜,也不可避免地存在像差。物镜镜片长时间曝光后的热效应、镜片的老化变形、光学元件缺陷、及透镜技术的自身光学局限都会导致像差。其中,对像差形成影响最大的...
EUV光刻,最终胜出!
这是由于绝大多数材料会强烈地吸收157nm的光波,只有二氟化钙(CaF2)勉强可以使用。但研磨得到的CaF2镜头缺陷率和像差很难控制,并且价格相当昂贵,雪上加霜的是它的使用寿命也极短,频繁更换镜头让芯片制造业无法容忍。另外,157nm对193nm的波长进步只有不到25%,研发投入产出比太低。
摩尔定律全靠它 CPU光刻技术分析与展望
目前只有氟化钙为低吸收材料,可供157nm使用(www.e993.com)2024年10月18日。目前二氟化钙镜头结构在双折射等技术问题方面尚无法解决,加之产量需求少,而投入非常大。造成成本昂贵。有机材料的软Pellicle不可能承受157nm的辐射(因辐射吸收热量太大),而无机材料的硬Pellicles必须用熔融的石英材料经特殊的加工制成,加工成非常薄的材料非常困难,800μm...