应用材料公司创新半导体芯片布线工艺:量产中首次使用钌,电阻最高...
IT之家7月10日消息,应用材料公司(AppliedMaterials,Inc.)于7月8日发布新闻稿,宣布推出芯片布线创新技术,通过业内首次在量产中使用钌,让铜芯片布线扩展到2纳米节点及更高水平,且电阻最高降幅达到25%。IT之家附上相关视频介绍如下:主流芯片布线设计当前芯片的晶体管规模已经发展到数百亿级别,...
Vishay推出通过AEC-Q200认证的极高可靠性薄膜片式电阻器,可提供...
日前,威世科技VishayIntertechnology,Inc.宣布,推出一系列通过AEC-Q200认证的全新薄膜片式电阻---CHA系列,这些产品可为汽车、宇航和航空电子、电信应用提供高达70GHz的高频性能。VishaySferniceCHA系列采用紧凑型02016封装尺寸,电阻值涵盖从10W到500W的范围。本文引用地址:httpseepw/article/20240...
今泰科技申请高熵合金薄膜专利,专利技术能达到硬度和电阻率可控的...
今泰科技申请高熵合金薄膜专利,专利技术能达到硬度和电阻率可控的效果金融界2024年3月27日消息,据国家知识产权局公告,广州今泰科技股份有限公司申请一项名为“一种高导电高强的高熵合金薄膜及其制备方法“,公开号CN117758127A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示,本发明公开了一种高导电高强的高熵合金薄膜及其制备...
中国高阻隔膜行业:环保型高阻隔薄膜材料的开发成为投资重点
高阻隔薄膜材料因其优异的阻隔性能、成本低廉、使用方便、透明性好、压力适形性好、机械性能好等优点,被广泛应用于发展迅速的食品、医药、化工等包装产品市场。目前国内高阻隔薄膜市场主流产品有五大类:PVA涂覆高阻隔薄膜、PVDC高阻隔薄膜、EVOH高阻隔薄膜、尼龙高阻隔薄膜、无机氧化物涂覆薄膜;PVDC高阻隔薄膜和EVOH高...
磁性二维材料领域取得重要进展!致真精密仪器助力高水平科研工作者...
近日,山西师范大学的许小红教授和薛武红教授合作,利用致真自主研发的低温强场微区激光克尔显微成像系统进行实验研究,报道了二维铁磁Cr5Te8材料的亚毫米级可控制备,并发现该材料具有畴壁成核控制的磁化反转过程和非单调磁场相关的磁电阻,研究成果以“ControlledGrowthofSubmillimeter-ScaleCr5Te8NanosheetsandtheDo...
薄膜电子拉力试验机测试原理全面解析——BOPP薄膜拉伸强度
薄膜电子拉力试验机的测试结果对于材料的质量控制、产品研发及生产工艺优化具有重要意义(www.e993.com)2024年10月17日。通过拉伸试验,可以评估材料的拉伸强度、断裂伸长率等性能指标,为产品设计提供数据支持。此外,撕裂试验、热封试验和粘合试验等也是薄膜材料性能测试的重要项目。拉伸强度:拉伸强度是衡量材料在受到拉力作用时所能承受的最大应力的指标。
西交大团队实现自组装六方氮化硼纳米片制备大面积薄膜,兼具高探测...
自组装法是一种成熟的工艺,尤其对于二维材料来说,前者能使其形成有序排布的薄膜,更有利于高性能器件的制备。最终,他们在水-正己烷的油-水界面处,将六方氮化硼纳米片组装成了薄膜,目前已经实现大面积薄膜的自组装,并成功转移至2英寸蓝宝石衬底上。
45个半导体产业项目消息汇总!
半导体产业网获悉:近日,天科合达、通潮精密、Resonac、天创、立洋光电、辰显光电、天科合达、晶引电子、富加镓业、威迈芯材、汉磊&世界先进、鸿茂光电、芯投微、贝和、华业气体、长飞先进、RIR、晶益通、合盛新材料、中微公司、国星光电、欧莱新材、阿达尼集团&高塔半导体、京东方、比亚迪、三责新材、中科飞测...
薄膜沉积工艺和设备
采用电阻热蒸发技术,它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验,可根据用户要求专门订制;可用于材料的物理和化学研究;可用于制备金属导电电极;可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究...
谁能替代铜互连?_腾讯新闻
2.薄膜电阻率缩放的材料依赖性Eq(7)包含了该问题的五个独立材料参数:体单晶电导率、电子平均自由程、薄膜表面/界面处散射的镜面度、平均晶粒尺寸和晶粒反射系数。在实践中,人们经常发现的晶粒尺寸对膜厚的强烈依赖性,这导致了第二个间接的源的厚度依赖性的薄膜电阻率,除了表面散射。晶粒尺寸和膜厚之间的关系...