李渊回:国产光刻机获重大突破!华为麒麟芯片要涅槃归来?

第一：28纳米节点，国产设备全面突破。第二：这个机器不止可以做28纳米的芯片，还可以做14纳米的芯片，14纳米的话无非是良品率高低的问题。14纳米相当于什么水平呢？就是麒麟710的那个水平。这个芯片目前主要用在华为畅享系列手机上，之前华为的部分平板好像也曾用过这个芯片。第三：官方公布这个消息意味着28纳米设备...

里程碑突破:国产大芯片光刻机首度交付,挑战国际巨头ASML

国产28纳米光刻机：半导体产业里程碑近期，科技界的焦点聚集在了国产28纳米光刻机的成功交付使用。这一事件对于国内半导体产业而言，无疑是划时代的里程碑，标志着首台国产大芯片光刻机的诞生。光刻机，作为集成电路制造的核心设备，其技术水平直接决定了芯片的性能和生产效率。过去，高端光刻机市场长期被国外巨头垄...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

如今随着我国成功制造出65纳米光刻机,西媒的话术又变成了中国不可能生产出28纳米的芯片。他们完全看不到,中国已经成为全球唯一一个拥有光刻机完整生产线的国家。自中美贸易战爆发以来,光刻机这一高端制造设备成为了全球技术封锁的焦点。光刻机被称为芯片制造的“皇冠”,其复杂的工艺和精密的设计使得它成为制造...

国产光刻机重大突破!28纳米芯片全流程国产化,龙头厂商梳理

想象一下,这台设备需要用极紫外光,将复杂的电路结构“刻”在芯片上,而每一道光都要精准到纳米级别,这对光源的稳定性和精度提出了极高要求。近年来,国产光刻机在光源系统上的突破,使得国内企业在高端设备制造上开始展现出新的实力。国产光刻机的未来展望然而,尽管技术进步显著,国产光刻机依然面临不少挑战。

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么

波长为193nm(纳米)、分辨率≤65nm、套刻≤8nm……日前,工信部的一份文件,再次把国产光刻机推入公众视野,甚至传出国产DUV光刻机突破8nm工艺的“重磅消息”。9月9日,工信部旗下微信公众号“工信微报”推送了工信部于9月2日签发的关于印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》的通知文件,通知...

国产光刻机重大突破,半导体行业持续复苏!光刻机概念集体爆发

在《指导目录》中,“集成电路生产装备”板块列出了氟化氪光刻机和氟化氩光刻机(www.e993.com)2024年11月6日。其中,氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度,能够支持28纳米工艺芯片的量产。这表明我国在半导体设备领域获得了重大突破。光刻机作为半导体制造的核心设备,其技术水平直接影响到芯片的性能和成本。随着相关技术上的不...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么?接近ASML 2015年的水平

05专家表示,国产光刻机向前迈了一小步,国内晶圆厂扩产自主可控可期。以上内容由腾讯混元大模型生成,仅供参考本报记者李玉洋上海报道波长为193nm(纳米)、分辨率≤65nm、套刻≤8nm……日前,工信部的一份文件,再次把国产光刻机推入公众视野,甚至传出国产DUV光刻机突破8nm工艺的“重磅消息”。

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

因此,尽管目前国产光刻机的套刻精度达到了8纳米,但这并不意味着可以直接生产8纳米制程的芯片,而是可能更适合于28纳米或更宽泛的应用范围。具体到芯片方面,以国际半导体技术路线图对套刻误差的要求为例,“套刻精度达到≤8nm”足以满足DRAM器件、Flash器件等存储相关芯片光刻环节的需要。

俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方

根据官方公开的信息可知,中国上海微电子公司已经量产了90纳米分辨率的SSX600系列光刻机,28纳米分辨率光刻机大概率也会在2024年取得突破。而28纳米级芯片,正是目前制造业需求量最大的,毕竟5纳米、3纳米级芯片目前还存在成本高、良品率较低等问题,不适合在全社会铺开,家电、汽车、雷达、飞机使用28纳米级芯片已经完全...

350纳米!发布国产光刻机-俄罗斯| 国科院研·科技成果转化

350纳米!发布国产光刻机-俄罗斯|国科院研·科技成果转化,美国,芯片,科院研,俄罗斯,光刻机,新技术,asml