鼎龙股份:完成半导体光刻胶自主研发 年产300吨光刻胶项目量产线将...

其中,鼎龙股份完成集成电路CMP抛光垫生产和半导体光刻胶自主研发,年产300吨光刻胶项目量产线将于2025年一季度投产;北旭电子面板用光刻胶产能达6000吨,投资新建光刻胶核心原材料生产线,将彻底解决集成电路光刻胶核心原材料被国外“卡脖子”的被动局面。

华科光刻胶:实现原材料全部国产,配方全自主设计,因此关注度高

光刻胶：又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图...

光刻胶量产只是突破的第一步!

产业链上也缺乏国内配套厂商，树脂占到光刻胶原材料成本的50%，决定光刻胶的硬度、附着力等基本属性，但是国内化工厂办法生产，基本依赖进口，聚甲基丙烯酸酯类树脂（PMMA）是ArF光刻胶的重要原料，低端PMMA是制造亚克力板的材料，我国产能过剩，光刻胶的原料PMMA需要高度定制化，国内是空白。某种程度上，光刻胶和光...

重大突破!芯片光刻胶关键技术被攻克:原材料全部国产 配方全自主设计

公开资料显示,光刻胶是一种感光材料,用于芯片制造的光刻环节,工作原理类似于照相机的胶卷曝光。芯片制造时,会在晶圆上涂上光刻胶,在掩膜版上绘制好电路图。当光线透过掩膜版照射到光刻胶上会发生曝光,经过一系列处理后,晶圆上就会得到所需的电路图。由于光刻胶是芯片制造的关键材料,国外企业对其原料和配方...

重大突破!华科人攻克芯片光刻胶关键技术

光刻胶是一种感光材料,用于芯片制造的光刻环节,工作原理类似于照相机的胶卷曝光。芯片制造时,会在晶圆上涂上光刻胶,在掩膜版上绘制好电路图。当光线透过掩膜版照射到光刻胶上会发生曝光,经过一系列处理后,晶圆上就会得到所需的电路图。由于光刻胶是芯片制造的关键材料,国外企业对其原料和配方高度保密,目前我国所...

光刻胶产业化又传利好 背后公司成立不足5个月 成色几何?

“从根本上来说,国产光刻胶的上游原材料还是要依靠进口,需要突破的是配方,目前国产的光刻胶原材料配方稳定性等较国外有差距(www.e993.com)2024年11月25日。”还有光刻胶从业者向《科创板日报》记者表示,“除了原材料配方之外的技术领域的突破,难度并不算大。”有新材料领域产业基金投资人士分析认为,“从细分维度来看,原材料、配方这两大因素...

光谷攻克芯片光刻胶关键技术

10月15日,中国光谷诞生重大科技成果:武汉太紫微光电科技有限公司在全国率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方,我国芯片制造关键原材料取得瓶颈性突破。该公司新型光刻胶产品已通过半导体工艺量产验证,即将量产。太紫微公司成立于2024年5月,由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。团队主攻关键光刻胶底层技术研发,已...

南大光电:三款ArF光刻胶已通过验证 树脂等重要原料自主研发

光刻胶是集成电路晶圆生产的重要物料,国产替代备受关注。6月20日,在光刻胶领域取得进展的南大光电(300346)获得数十家机构的联合调研。南大光电在调研记录中称,公司在光刻胶技术研发方面,始终坚持从原材料到产品的完全自主化。光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力,能够实现从光刻...

2024年中国光刻胶产业链图谱研究分析(附产业链全景图)

中商情报网讯:光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。一、产业链光刻胶产业链上游为原材料及设备,原材料包括溶剂、树脂、光引发剂、单体,设备包括光刻机、涂胶显影设备、检测与测试设备等;中游为光刻胶,可分为PCB光刻胶、LCD光...

国产光刻胶:容大感光、南大光电、强力新材、广信材料含金量谁高

公司主要是为光刻胶提供相应原材料,但并不直接生产光刻胶产品。广信材料,公司聚焦和立足于PCB光刻胶并拓展至显示面板光刻胶、半导体光刻胶等领域。在PCB光刻胶领域,公司综合实力强劲,先后负责修订或牵头起草了国家工信部行业标准、中国印制电路行业协会行业标准、军用印制板设计制造验收标准等多个专业标准。