...磁控溅射设备专利,能够增加粒子的离化率,进而提升镀膜的膜层性能
磁控溅射设备还包括位于溅射腔室内且相对设置的第一对向靶阴极和第二对向靶阴极,以及设置于第一对向靶阴极的第一磁控组件和设置于第二对向靶阴极的第二磁控组件,第一磁控组件和第二磁控组件用于在基片台和溅射阴极之间形成磁场。上述磁控溅射设备能够增加粒子的离化率,进而提升镀膜的膜层性能。本文源自金融界...
又一家GW级钙钛矿磁控溅射设备顺利交付!
此外,鹑火光电开发出氧化镍(NiOx)空穴传输层磁控溅射设备量产线,使用金属镍或导电的氧化镍圆柱靶材,在Ar/O2混合气氛中沉积氧化镍膜层。相较于传统的射频电源结合平面阴极镀膜工艺,鹑火光电通过采用自主研发的反应溅射控制器,能够提高镀膜效率和工艺稳定性,设备具有靶材利用率高(>80%),镀膜效率高(沉积速度可以提高数倍...
东威科技取得驱动装置、配合结构及磁控溅射双面镀膜系统专利,便于...
以带动溅射磁极结构和镀膜辊结构进入或者退出镀膜腔,在溅射磁极结构中的阴极靶材使用结束后,利用第一驱动件驱动第一转移件带动溅射磁极结构退出镀膜腔,以对阴极靶材进行更换,更换过程是在退出镀膜腔后以外的工作空间,操作更换阴极靶材的空间较大,便于操作。
迈为股份获得发明专利授权:“一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备”
磁控溅射阴极装置包括靶材筒组件、磁棒组件及汇聚磁铁组件,靶材筒组件位于真空腔室内,磁棒组件位于靶材筒组件的内部,汇聚磁铁组件设置在靶材筒组件靠近真空腔室侧壁的一侧,汇聚磁铁组件产生的磁力线能够朝靠近待镀膜基片的方向挤压磁棒组件产生的磁力线,避免溅射的原子沉积到真空腔室的侧壁上,使更多的原子沉积到待镀膜基片...
博远微纳高真空双靶磁控溅射镀膜机VPI博远微朗-博远微纳-新品
6,确保使用/运行环境有足够的通风,并且避免阳光直接照射到仪器。7,氩气和氩气瓶解压阀需自备。创新点:与市场上现有的镀膜仪相比结构紧凑,体积小巧,可放置与桌面,目前市场上的仪器体积都相对庞大,占空间。集成度高博远微纳高真空双靶磁控溅射镀膜机VPI博远微朗...
迈为股份申请磁控溅射设备及磁控溅射方法专利,提升镀膜的膜层性能
磁控溅射设备还包括位于溅射腔室内且相对设置的第一对向靶阴极和第二对向靶阴极,以及设置于第一对向靶阴极的第一磁控组件和设置于第二对向靶阴极的第二磁控组件,第一磁控组件和第二磁控组件用于在基片台和溅射阴极之间形成磁场(www.e993.com)2024年10月23日。上述磁控溅射设备能够增加粒子的离化率,进而提升镀膜的膜层性能。
东威科技取得磁控溅射双面镀膜系统专利,提高镀膜操作的便捷性
第一驱动组件和第二驱动组件分别驱动镀膜辊结构和溅射磁极结构进入到壳体的腔体内,以进行镀膜操作,当系统位于需要更换阴极靶材或者将膜材进行取装的停止镀膜的停机状态下,利用第一驱动组件驱动溅射磁极结构退出腔体,以对溅射磁极结构上的阴极靶材进行更换,也可以利用第二驱动组件驱动镀膜辊结构退出腔体,以对膜材进行取装...
机构首次关注-研报-股票频道-证券之星
传统铜箔方面,洪田科技已实现3.5μm-100μm锂电极薄、电子电路超厚解铜箔生产装备的产业化,直径3.6米超大规格电解铜箔阴极辊、生箔机与配套设备,以及高端极薄的锂电铜箔3μm产品,达到行业领先水平。复合集流体方面,洪田科技研制的真空磁控溅射蒸发镀膜一体机使用纯磁控溅射工艺和真空蒸镀一体机镀膜,可同时满足双面卷对...
乘势而上,氢启未来——北方华创薄膜设备打入氢能燃料电池市场
近日,由北方华创(363.180,-12.82,-3.41%)自主研发的eArctic系列阴极电弧复合磁控溅射镀膜设备在氢能燃料电池头部企业实现稳定量产,标志着北方华创成功打开了氢能市场的大门。这一突破为我司在新能源领域的持续发力吹响了进军号。乘势而上氢能燃料电池领域迎来重大发展机遇...
宝来利蒸发镀膜和溅射镀膜分析
1.沉积速率大。由于采用高速磁控电极,可获得的离子流很大,有效提高了此工艺镀膜过程的沉积速率和溅射速率。与其它溅射镀膜工艺相比,磁控溅射的产能高、产量大、于各类工业生产中得到广泛应用。2.功率效率高。磁控溅射靶一般选择200V-1000V范围之内的电压,通常为600V,因为600V的电压刚好处在功率效率的最高有效范围之...