胜利精密:公司磁控溅射技术是氩气电离后在电场作用下不断轰击靶材...
公司回答表示,您好,公司磁控溅射技术是氩气电离后在电场作用下不断轰击靶材,将靶材以原子状态溅射沉积在工件表面,形成致密的镀膜层,是一种高精密的真空镀膜加工工艺。相关技术已应用在公司玻璃镀膜和复合集流体等产品上。感谢您的关注!
新“国九条”后科创板IPO首秀!高性能溅射靶材投资价值几何?
招股书显示,欧莱新材在高性能溅射靶材领域深耕多年,主要产品包括多种尺寸形态的铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和ITO靶等,广泛应用于半导体显示、触控屏、建筑玻璃、装饰镀膜、集成电路封装和太阳能(5.120,0.42,8.94%)电池等领域,代表性客户涵盖了京东方、华星光电、惠科、越亚半导体、SK海力士等显示面板和半导体知名企业。
道森股份获天风证券买入评级,洪田科技收入利润高增
洪田科技电解铜箔高端生产装备在全国首家实现采用一体机设备一次性通过真空磁控溅射技术在高分子材料基膜双面镀铜1μm,并且在设备运行功率、靶材利用率、靶材数量、溅射沉积速率等多个关键性能指标,和稳定传送超薄基材胶片技术、超薄基材的抑制热损伤技术、高速成膜圆筒旋转式磁控溅射阴极技术等多个关键技术,以及工艺便捷控制...
道森股份(603800):洪田科技收入利润高增 复合铜箔有望打开成长空间
洪田科技研制的“真空磁控溅射一体机”复合铜箔真空镀膜成套设备在全国首家实现采用一体机设备一次性通过真空磁控溅射技术在高分子材料基膜双面镀铜1μm,并且在设备运行功率、靶材利用率、靶材数量、溅射沉积速率等多个关键性能指标,和稳定传送超薄基材胶片技术、超薄基材的抑制热损伤技术、高速成膜圆筒旋转式磁控溅射阴极技术...
博远微纳高真空双靶磁控溅射镀膜机VPI博远微朗-博远微纳-新品
双靶磁控溅射仪原理:磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场...
道森股份:近一年累计回购股份三次 加速新能源高端装备业务转型
不仅如此,道森股份在超精密真空镀膜设备制造方面同样取得了显著进展(www.e993.com)2024年10月23日。公司控股子公司洪田科技自主研发的真空磁控溅射一体机,实现了国内首台“一步法干法”复合铜箔真空镀膜成套设备的发布。该设备在真空磁控溅射技术、靶材利用率和沉积速率等多个关键性能指标上均达到了国际先进水平。
宝来利蒸发镀膜和溅射镀膜分析
1.沉积速率大。由于采用高速磁控电极,可获得的离子流很大,有效提高了此工艺镀膜过程的沉积速率和溅射速率。与其它溅射镀膜工艺相比,磁控溅射的产能高、产量大、于各类工业生产中得到广泛应用。2.功率效率高。磁控溅射靶一般选择200V-1000V范围之内的电压,通常为600V,因为600V的电压刚好处在功率效率的最高有效范围之...
中科大发布7.43亿采购订单,内含人形机器人
高通量电池组装系统组装电池速度快,产量高,需要大量通道进行及时测试才能形成闭环。同时常规的电池测试实验所用时间长(长则逾半年),需要较多测试设备完成高通量测试。且0-60℃是常用的电池测试温度区间。所以计划购置12台240通道扣电恒温箱一体机(0-60℃)进行电池测试。229.22024年7月ALD沉积催化剂合成系统用于...
海泰新光2023年年度董事会经营评述
海泰新光2023年年度董事会经营评述内容如下:一、经营情况讨论与分析2023年,在董事会的领导下,公司管理层严格按照相关法律法规和内控制度规范管理,全体员工团结努力、真抓实干,在国际形势和国内经济环境下行的压力下,公司各方面顶住压力
复合集流体行业研究:24年有望迎来全面爆发
一步法有干湿法之分,包括使用纯磁控溅射或磁控溅射+真空蒸镀一体机的全干法和使用化学沉积法的全湿法。2.2.复合集流体具备高安全性、低成本、高能量密度的优势复合集流体可以解决传统锂电铜箔面临的痛点问题。1)金属材料价格成本高,其中铜箔占比锂离子电池总成本9%,铝箔占比锂离子电池总成本4%(正负...