原子层沉积与化学气相沉积 碳材料大会 | 碳材料展 |

该技术通过连续的自限性表面反应实现原子层控制和保形沉积。它涉及将化学试剂依次引入基底表面,形成亚单层薄膜。ALD主要应用于100纳米以下的薄膜,但也可用于厚度达几微米的较厚薄膜。在此过程中,两种或多种前体在特定温度和压力下与基板在腔室中依次发生反应,从而将材料逐层沉积在基板表面。ALD循环通常由四...

一文了解原子层沉积(ALD)技术的原理与特点

原子层沉积技术(ALD)是一种一层一层原子级生长的薄膜制备技术。理想的ALD生长过程,通过选择性交替,把不同的前驱体暴露于基片的表面,在表面化学吸附并反应形成沉积薄膜。20世纪60年代,前苏联的科学家对多层ALD涂层工艺之前的技术(与单原子层或双原子层的气相生长和分析相关)进行了研究。后来,芬兰科学家...

哈工大霍华/付传凯、浙大王利光等综述:全固态锂电池中有机-无机...

通过某些技术方法也可以改善无机填料在聚合物中的分散性,Xie等人利用原子层沉积(ALD)将ZnO量子点均匀分布在PEO基固体电解质基质中。该方法实现了VPI-ZnO与PEO之间的强化学相互作用以及VPI-ZnO在PEO中的均匀分布。结果表明,电解质上表面松散的O-Li??配位和剩余的VPI-ZnO导致Li??迁移数显著增加,界面对锂金属的电阻...

原子层沉积设备哪个品牌比较好 2024年5月原子层沉积设备热度排名

2、PROMETHEUS流化床原子层沉积系统报价:面议品牌:ForgeNano型号:PROMETHEUS产地:美洲厂商:复纳科学仪器(上海)有限公司查看仪器详情3、台式原子层沉积系统报价:??100万-200万品牌:ARRADIANCE型号:GEMStar产地:美洲厂商:QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司查看仪器详情4、SUPERALDExploiter原子层沉...

7.42亿元!复旦大学107项仪器采购意向

近日,复旦大学发布107项仪器设备采购意向,预算总额达7.42亿元,涉及组织空间原位分析仪、玻片扫描仪、批量自动多重免疫染色平台、高通量脑肌电信号采集系统与分析系统、转盘微流控系统、非对称轨道无损组合超高分辨质谱分析系统等,预计采购时间为2024年9~12月。复旦大学2024年9~12月仪器设备采购意向汇总表采购项目需求...

ALD,愈发重要!

原子层沉积(ALD)过去被认为速度太慢,无法在半导体制造中实际使用,但它已成为最先进节点上晶体管和互连制造的关键工具(www.e993.com)2024年11月1日。ALD可以在一定程度上加快速度,但真正的转变是最先进节点上精确成分和厚度控制的价值不断提高,这使得在沉积上花费的额外时间是值得的。

微导纳米(688147) 以新质生产力赋能新能源发展 百兆瓦钙钛矿ALD...

ALD属于CVD的分支。ALD技术是一种基于气相化学反应的薄膜沉积方法,其工作原理是通过前驱体分子在表面的化学吸附、分解和产物去除等步骤,从而实现对薄膜厚度和成分的精确控制,在柔性电子、MEMS、催化及光学器件等高科技领域展现出了令人瞩目的产业化前景。自1974年瑞典科学家Tuomo????Suntola首次发现这一...

关于【半导体产业现状】与【各类沉积设备】发展趋势

原子层沉积(ALD)是可以将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面,形成对复杂形貌的基底表面全覆盖成膜的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处,但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联,因此该方式每次反应只沉积一层原子。在ALD工艺过程中,通过将不同的反应前驱体以气...

PE投资丨半导体ALD工艺原理和发展前景

相较于传统PVD及CVD工艺,ALD工艺沉积效率不高,但ALD的优势在于每个沉积周期中,只有一层物质被添加到薄膜中,因此ALD具有高度均匀精确的薄膜厚度控制以及对复杂形状的表面适用性高等优点。因此,预期在先进晶圆制程中,原子层沉积ALD的占比将越来越高。ALD设备的市场规模情况...

等离子蚀刻未来,三巨头的观点

对于沉积步骤,传统上使用碳氢化合物形成气体(例如CH4)作为前体;较新的方法使用原子层沉积(ALD)前体,例如双(叔丁基氨基)硅烷或二异丙基氨基硅烷。优先沉积发生在PR上,后续的ASD循环在蚀刻下层期间几乎不会导致PR损失。然而,ASD方法速度较慢,找到最佳沉积/蚀刻周期并尽量缩短工艺时间至关重要。许多ASD...