光刻胶爆火背后
2023年9月19日 - 腾讯新闻
目前半导体和面板光刻胶所使用的溶剂主要是PGMEA(丙二醇甲醚醋酸酯或丙二醇甲醚乙酸酯PMA),国内自给率较高。根据观研网数据显示,2015-2021年我国丙二醇甲醚行业产能小幅上升,2021年实际产能达到45万吨,产量达到37.5万吨,需求量为26.58万吨,国内市场规模波动上升,于2021年达到33.95亿元。光引发剂集中度高,国内企业已...
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关键原料实现突破,万润股份:电子信息和新能源材料,百舸争流
2023年5月28日 - 百家号
添加剂:各厂商差异点之一,能够改变光刻胶的某些关键特性,通常占比约1%。光刻胶树脂及单体最为核心,在光刻胶中价值占比更大。从用量上来说,溶剂(主要为丙二醇甲醚醋酸酯,简称PMA)是用量最大的材料,含量最高可达90%,但在成本上并不突出,且不起关键作用;作为光化学反应的核心部分,光引发剂的用量...
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揭秘国产光刻胶!三大类广泛布局 8大重点企业冲击先进制程
2022年5月29日 - 凤凰网
(1)从成本来看,高端光刻胶中树脂占成本比重较大。根据南大光电公告,ArF光刻胶树脂以丙二醇甲醚醋酸酯为主,质量占比仅5%-10%,但成本占光刻胶原材料总成本的97%以上。▲光刻胶原材料含量占比各类光刻胶所需树脂几乎全部由海外垄断。G线光刻胶用环化橡胶树脂;I线光刻胶使用线性酚醛树脂,主要是依赖进...
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新材料专题报告之湿电子化学品行业深度研究
2020年4月13日 - 新浪
氢氟酸、冰乙酸、氨水、氟化铵、氢氧化钾溶液、C-400胆碱清洗剂、氢氧化钠溶液);蚀刻液(BOE、铝/钼/钼铝/硅/金/银/钛/铬/ITO蚀刻液、酸性剥离液、DHF);溶剂(甲醇、乙醇、异丙醇、丙酮、醋酸丁酯、甲苯、二甲苯、三氯乙烯、环己烯、N-甲基吡咯烷酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚醋酸酯)和光刻胶...
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