光刻机首次亮相这项世界大赛,北京电子科技职业学院夺金奖

此次比赛使用的产线级光刻机实训平台，由北航集成电路科学与工程学院团队自主研发，是原光刻机设备1:1比例的实训机型，可利用虚拟仿真技术进行拆解模拟，有效解决了大型设备内部结构复杂、难以直观理解的问题，让学生能更好地了解光刻机的原理和技术。这一突破性创新设备，为集成电路关键工艺设备教学与人才培养提供了重...

全世界只有两个国家掌握,比原子弹更稀有,高端光刻机到底有多难

而为了做到这一点,光刻机用工作台的精度令人难以想象,平面度和垂直度要求为1纳米,形位精度要求小于5纳米。而要做到如此精确,必须要掌握“极紫外光源”这种细微的电磁辐射技术,这是一种波长在121纳米到10纳米之间的电磁辐射光波。光刻机所用到的仅有13.5纳米,这是人肉眼不可见的数据,要达到这个数值,需要经过千万...

台积电与阿斯麦,分化在哪里?

所以,有传三星或正在考虑重新设计其1aDRAM中的一些电路,如果真是如此,三星可能至少需要六个月才能完成,也就是说起码要到明年第2季才能实现量产,从而影响了其产品供应的进度,这或影响到其对阿斯麦光刻机的需求。2024年第3季,阿斯麦的已预订系统价值较上季下降52.7%,至26.33亿欧元,见下图。AI还有戏吗?在回答...

美荷两国发声,对我国独立研发的光刻机技术,进行了强烈批评

然而，美国人怎么会轻易认输？他们还有后手——光刻机。美国深知光刻机技术难度极高，认定中国不可能突破，至少在短期内不可能。所以，当中国宣布研发出光刻机时，美国媒体彻底慌了，开始各种抹黑，甚至无耻地指责中国“窃取技术”。这种说法简直可笑至极！如果真是机密技术，哪有那么容易被窃取？要是所有技术都像他...

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国都造不出,中国永远不可能

光刻机最主要的三个部件是为光源、光学系统和蚀刻工作台。首先是光源,它必须用13.5纳米波长的极深紫外光,这种光源本身的分辨难度就很高,国内没有几家公司能够做出来。光学系统我国只能依赖于进口,现在唯一能够达到标准的是德国的蔡司。工作台就更不用多说了,这是整个光刻机的核心零部件,需要5000多个精密的仪器...

投资50亿光刻机工厂落户浙江,ASML最不愿意看到的情况出现

一般来说光刻机这种造价极高的高科技产品都会有保修时间，而我国与ASML公司也是一直这样约定的(www.e993.com)2024年11月2日。但今年8月31日，ASML公司突然宣布不会帮助中国维修从ASML公司购买的高端光刻机，也就意味着中国要承担光刻机出问题的风险。高端光刻机这种精密仪器，不仅是研发难度大，维修费用和难度同样难以想象，再加上我国没有掌握...

1、高端光刻机的难度众所周知,但行业前景来说,并不具有非常广泛性...

1、高端光刻机的难度众所周知,但行业前景来说,并不具有非常广泛性,即使拿这个行业绝对垄断地位的世界第一阿斯麦公司来说,每年也就卖出三百台产值也就三四千亿元,对整个全球的其它产业来说是相对很小的一个行业。假如未来二三年内或三四年内我国能制造了,则它的单价未来会应声大幅下跌,和之前复杂的盾构机一样,我...

中国造不出光刻机?中科大高层一句话让人心凉,造光刻机有多难?

确实是因为EUV光刻机制造实在是太难了。用阿斯麦CEO韦尼克的话说,就是如果反射镜面积跟德国一样大,那么它的最高突起不能高于一厘米。如果两辆车以每小时三万公里的速度移动并行,那么两者的差值必须小于0.5毫米。这么苛刻的要求,EUV光刻机就做到了,在精细这一块,可以说阿斯麦已经做到了极致化,所以自迈入21世纪...

光刻机之王,崩了!

而阿斯麦(ASML)的光刻机,就位于整个产业链上游半导体设备这个细分的位置(看下图)。据平安证券研报,光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一,目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类,其性能直接决定了芯片的工艺水平,开发难度大,价值量高,市场规模可观,全球光刻机市场规模超230亿...

ASML光刻机是怎样一步步走上绝路的

我们要解释光刻机的难度,同样需要理解它怎样处理各种印刷的精度和材料及温度特性等问题。二、光刻机从Aligner到Stepper(步进光刻机),是一次微机电的升级,从一次曝光一整片晶圆到光头在晶圆上一步一步(Stepandrepeat)移动曝光一个小方块,那时还用的是简单的汞灯。Stepper升级到Scanner(扫描光刻机),因为激光光源...