23考情分析|最新解读倾力整理!暨南大学821材料综合考研 含复试线...

A.NF3;B.NO2;C.PCl3;D.BCl3下列氯化物中,熔点最低的是A.HgCl2;B.FeCl3;C.FeCl2;D.ZnCl2下列分子和离子中,键能最大的是A.N2;B.O2+;C.NO;D-下列分子和离子中,具有顺磁性的是A.NO+;B.[Fe(CN)6]4-;C.B2;D.CO下列物质中,还原性最强...

半导体工业用电子特气浅谈

8.三氯化硼(BCL3)将粗制BCL3;经活性炭吸附,除去Al、Fe、si等金届化合物,可制得6NBCL3。活性炭适宜孔径为(1～10)×10-3um。9.四氟化硅(SiF4)粗制SiF4经活性炭吸附除去(SiF3)2O等含氧氯硅烷及SO2、SO3、H2S等含硫化合物。电子气品种多,纯化方法一般多采用吸附(常温、低温)、精馏(古间歇精...

半导体材料与工艺:半导体工业中的电子特气浅谈

8.三氯化硼(BCL3)将粗制BCL3;经活性炭吸附,除去Al、Fe、si等金届化合物,可制得6NBCL3。活性炭适宜孔径为(1～10)×10-3um。9.四氟化硅(SiF4)粗制SiF4经活性炭吸附除去(SiF3)2O等含氧氯硅烷及SO2、SO3、H2S等含硫化合物。电子气品种多,纯化方法一般多采用吸附(常温、低温)、精馏(古间歇精...

半导体材料之电子特气深度报告:晶圆制造之血液

也就是气体类别中的电子气体,比如高纯度的SiH4、PH3、AsH3、B2H6、N2O、NH3、SF6、NF3、CF4、BCl3、BF3、HCl、Cl2等,在IC生产环节中,使用的电子气体有差不多有100多种,核心工段常见的在30种左右。

电子特气行业深度报告:国产化迎历史性机遇

生成的AsH3杂质的含量取决于Zn3As2的纯度,通过系列的提纯单元,AsH3纯度大于5.5N以上。AsH3是制造半导体化合物砷化镓的重要材料,迄今为止尚无AsH3的替代用。砷烷在国内是紧俏产品,尽管许多单位声称已经拥有砷烷生产技术,但砷烷及其含砷化合物均属剧毒品,因此很难满足国家系列生产许可。在目前国内的安全大...